担持金属触媒の精密設計による新規アクセプターレス脱水素反応の開発
| Project/Area Number |
18J21337
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 国内 |
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| Research Field |
Catalyst/Resource chemical process
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
吉井 大地 東京大学, 工学系研究科, 特別研究員(DC1)
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| Project Period (FY) |
2018-04-25 – 2021-03-31
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2020)
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| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 2020: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
Fiscal Year 2019: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
Fiscal Year 2018: ¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
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| Keywords | ホウ素化 / ニッケル / 不均一系触媒 / 銅 / 脱水素ボリル化反応 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
採用第3年度目においては、第2年度目に見出した担持ニッケル触媒によるアルキルアレーンのベンジル位C(sp3)-H結合のホウ素化反応について、最適反応条件の確立、基質適用性の検討、触媒の詳細なキャラクタリゼーションなどを行った。析出沈殿法によってNi水酸化物をCeO2に担持した触媒 (Ni(OH)x/CeO2) を用いた場合に、ピナコールボラン (HBpin) をホウ素化剤とするアルキルアレーンのベンジル位C(sp3)-H結合のホウ素化反応が高選択的に進行した。第2級ベンジル位C(sp3)-H結合を有するヘプチルベンゼンをモデル基質に設定し、触媒量、反応温度、溶媒、HBpin等量などを検討し、最適反応条件を決定した。基質適用性の検討を行い、これまでに報告例が少ない比較的長いアルキル鎖を有するアルキルベンゼンやジフェニルメタン類の第2級ベンジル位C(sp3)-H結合に対して適用可能であることを見出した。また、第1級ベンジル位のC(sp3)-H結合を有するメチルアレーンを基質とした場合には、ホウ素化反応が2回進行したジホウ素化体を主生成物として得た。また、反応に伴ってH2ガスが生じていることを確認し、アクセプターレス脱水素型の反応となっていることが確かめられた。HBpinで処理した触媒のNiK端XAFSスペクトルのEXAFS領域の解析を行うことによって、生じたNi(0)種が担体上に非常に高分散な状態にあることを明らかにした。また、STEM-EDS分析によって担体上にNi種が非常に高分散な状態にあることを確認した。CeO2以外の担体を用いた場合や他の還元手法を用いた場合との比較を行うことで、CeO2担体が反応条件下におけるHBpinによるNi(II)水酸化物の還元を促進し、これが優れた活性と選択性を示す高分散なNi(0)種の形成に寄与することを明らかにした。
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| Research Progress Status |
令和2年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
令和2年度が最終年度であるため、記入しない。
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Report
(3 results)
Research Products
(8 results)
