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Development of metal wiring process with low environmental load using high-density hydrogen radicals

Research Project

Project/Area Number 18K18809
Research Category

Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)

Allocation TypeMulti-year Fund
Review Section Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

Ohmi Hiromasa  大阪大学, 工学研究科, 助教 (00335382)

Project Period (FY) 2018-06-29 – 2021-03-31
Project Status Completed (Fiscal Year 2020)
Budget Amount *help
¥6,240,000 (Direct Cost: ¥4,800,000、Indirect Cost: ¥1,440,000)
Fiscal Year 2020: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
Fiscal Year 2019: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
Fiscal Year 2018: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
Keywords水素 / 金属 / 配線 / プラズマ / 成膜 / 加工 / 化学輸送 / エッチング / ドライエッチング / 高圧 / 高速 / エコフレンドリー / 銅
Outline of Final Research Achievements

In this study, we have developed the removal and deposition technologies for metals toward the wiring of electronic devices using hydrogen without using toxic chemicals with a heavy environmental load. By using high-density hydrogen plasma, a Cu etching rate attained to more than 50 times higher than that of low-pressure hydrogen plasma. In addition, by adding water or nitrogen to pure hydrogen plasma, more efficient copper etching could be achieved. The water-mixed hydrogen plasma also possessed etching potential for refractory metals such as Mo and W. Besides, a metallic copper film formation on a substrate was succeeded by using a copper compound produced through the etching reaction as a film precursor. Furthermore, it was confirmed that the metal surface after the pure hydrogen plasma treatment excited the localized plasmon.

Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements

本研究では、従来危険な酸やハロゲンガス等を用いることが絶対視された金属材料のエッチングを、水素だけでも高効率に実現できることを世界で初めて証明しただけなく、水素に窒素や水蒸気など、身近でありふれたガスを混合することで、そのエッチングレートが著しく増強されることを新たに発見したこと、さらには、高価な金属系の原料ガスを用いること無く、水素による金属エッチングで生成される化合物を用いた化学輸送成膜を世界で初めて実証した。得られた成果は、実用化に向けては未だ基礎的なものではあるが、低環境負荷な製造技術に向けた新たな加工/成膜原理の実証がなされており、今後の展開が期待されるものである。

Report

(4 results)
  • 2020 Annual Research Report   Final Research Report ( PDF )
  • 2019 Research-status Report
  • 2018 Research-status Report
  • Research Products

    (11 results)

All 2021 2020 2019 2018

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Open Access: 1 results) Presentation (10 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 1 results)

  • [Journal Article] Significant Improvement of Copper Dry Etching Property of a High-Pressure Hydrogen-Based Plasma by Nitrogen Gas Addition2019

    • Author(s)
      Hiromasa Ohmi, Jumpei Sato, Yoshiki Shirasu, Tatsuya Hirano, Hiroaki Kakiuchi, and Kiyoshi Yasutake
    • Journal Title

      ACS Omega

      Volume: 4 Issue: 2 Pages: 4360-4366

    • DOI

      10.1021/acsomega.8b03163

    • Related Report
      2018 Research-status Report
    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Presentation] 高密度水素プラズマ曝露による銀表面のナノポーラス化挙動の観察2021

    • Author(s)
      関戸 拓郎、安東 卓洋、垣内 弘章、安武 潔、大参 宏昌
    • Organizer
      2021年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Related Report
      2020 Annual Research Report
  • [Presentation] 高圧水素プラズマ誘起ナノポーラス化銀表面のプラズモン特性評価2021

    • Author(s)
      関戸 拓郎、安東 卓洋、垣内 弘章、安武 潔、大参 宏昌
    • Organizer
      2021年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Related Report
      2020 Annual Research Report
  • [Presentation] 中圧水素プラズマによるナノポーラス銀表面の創成2021

    • Author(s)
      関戸 拓郎、安東 卓洋、垣内 弘章、安武 潔、大参 宏昌
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
    • Related Report
      2020 Annual Research Report
  • [Presentation] 高圧水素プラズマ誘起ナノポーラス化銀表面の光学特性評価2021

    • Author(s)
      安東 卓洋、関戸 拓郎、垣内 弘章、安武 潔、大参 宏昌
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
    • Related Report
      2020 Annual Research Report
  • [Presentation] ユビキタスガス添加水素プラズマ化学輸送法による銅薄膜の形成2020

    • Author(s)
      関戸拓郎,安東卓洋,垣内弘章,安武潔,大参宏昌
    • Organizer
      2020年度 精密工学会春季大会学術講演会
    • Related Report
      2020 Annual Research Report 2019 Research-status Report
  • [Presentation] 高圧水素プラズマを用いた機能材料の成膜・加工プロセス2019

    • Author(s)
      大参宏昌
    • Organizer
      2019年度 精密工学会秋季大会学術講演会
    • Related Report
      2019 Research-status Report
    • Invited
  • [Presentation] 水素ベース高圧プラズマを用いた金属の化学加工法の開発2019

    • Author(s)
      安東卓洋,白數佳紀,垣内弘章,安武潔,大参宏昌
    • Organizer
      2019年度 精密工学会春季大会学術講演会(2019年3月13日-15日,東京電気大学)
    • Related Report
      2018 Research-status Report
  • [Presentation] 水蒸気添加水素プラズマによる金属銅のドライエッチング2019

    • Author(s)
      白數佳紀,安東卓洋,垣内弘章,安武潔,大参宏昌
    • Organizer
      2019年 第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年3月9日-12日,東京工業大学)
    • Related Report
      2018 Research-status Report
  • [Presentation] 水蒸気添加水素プラズマによる金属銅の高速ドライエッチング2019

    • Author(s)
      白數佳紀,垣内弘章,安武潔,大参宏昌
    • Organizer
      2018年度 精密工学会秋季大会学術講演会(2018年9月5日-7日,函館アリーナ)
    • Related Report
      2018 Research-status Report
  • [Presentation] Copper dry etching using a high-pressure plasma with non-toxic gas2018

    • Author(s)
      Hiromasa Ohmi,Yoshiki Shirasu, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake
    • Organizer
      The 17th Joint Vacuum Conference (JVC-17), Olomouc, Czech Republic
    • Related Report
      2018 Research-status Report
    • Int'l Joint Research

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Published: 2018-07-25   Modified: 2022-01-27  

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