| Project/Area Number |
19206078
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Material processing/treatments
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| Research Institution | Hokkaido University |
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Principal Investigator |
MASATOSHI Sakairi (2008) Hokkaido University, 大学院・工学研究科, 准教授 (50280847)
高橋 英明 (2007) Hokkaido University, 大学院・工学研究科, 教授 (70002201)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
KIKUCHI Tatsuya 北海道大学, 大学院・工学研究科, 助教 (60374584)
坂入 正敏 北海道大学, 大学院・工学研究科, 准教援 (50280847)
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| Co-Investigator(Renkei-kenkyūsha) |
TAKAHASHI Hideaki 旭川工業高等専門学校, 校長 (70002201)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥39,780,000 (Direct Cost: ¥30,600,000、Indirect Cost: ¥9,180,000)
Fiscal Year 2008: ¥20,540,000 (Direct Cost: ¥15,800,000、Indirect Cost: ¥4,740,000)
Fiscal Year 2007: ¥19,240,000 (Direct Cost: ¥14,800,000、Indirect Cost: ¥4,440,000)
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| Keywords | 表面・界面制御 / アノード酸化 / マイクロ・ナノテクノロジー / バルブ金属 / 微細加工 / レーザー / めっき / 液相析出 / 電解コンデンサー / CVD |
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| Research Abstract |
本研究においては、電気化学的手法とレーザー照射を用いることにより、アルミニウムを中心とするバルブ金属表面にマイクロ・ナノ構造を構築し、新規な性質を付与する技術の開発を目的とした。高容量電解コンデンサーの試作、マイクロ・ナノ電子デバイスの作製および導電性高分子・無電解めっきを応用した新規表面処理法の開発を実現し、バルブ金属をエレクトロニクス・ナノテクノロジーの分野において利用するための新たな活用法を開拓することに成功した。
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