| Project/Area Number |
19206105
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Nuclear engineering
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| Research Institution | Japan Atomic Energy Agency |
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Principal Investigator |
KAMIYA Tomihiro Japan Atomic Energy Agency, 放射線高度利用施設部, 課長 (70370385)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
NISHIKAWA Hiroyuki 芝浦工業大学, 工学部, 教授 (40247226)
SEKI Shuuhei 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30273709)
SUGIMOTO Masaki 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (90354943)
ISHII Yasuyuki 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究副主幹 (00343905)
SATOH Takahiro 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究副主幹 (10370404)
OHKUBO Takeru 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 研究職 (40446456)
芳賀 潤二 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 放射線高度利用施設部, 出向職員 (00414566)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2010
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2010)
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| Budget Amount *help |
¥45,890,000 (Direct Cost: ¥35,300,000、Indirect Cost: ¥10,590,000)
Fiscal Year 2010: ¥10,790,000 (Direct Cost: ¥8,300,000、Indirect Cost: ¥2,490,000)
Fiscal Year 2009: ¥11,310,000 (Direct Cost: ¥8,700,000、Indirect Cost: ¥2,610,000)
Fiscal Year 2008: ¥16,120,000 (Direct Cost: ¥12,400,000、Indirect Cost: ¥3,720,000)
Fiscal Year 2007: ¥7,670,000 (Direct Cost: ¥5,900,000、Indirect Cost: ¥1,770,000)
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| Keywords | ナノデバイス / マイクロマシン / マイクロビーム / 3Dナノ構造創製 / マスクレ描画 / ナノ細線 / MEMS / イオンマイクロビーム / マスクレス多重露光 / SU-8レジスト / 遊星歯車構造 / シングルイオンヒット描画 / マスクレス露光 / レジスト / 高アスペクト比 / 空間分解能 |
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| Research Abstract |
3D nano-fabrication technology making the best use of the feature of the high energetic ion microbeam of MeV or more was developed for the nano-device or the micro-machine production. In this study, various microbeam systems, which we previously developed to have the features of high spatial resolution, of high-density local energy deposition and of long range, were utilized to establish a maskless multi-exposure technique for the ion beam lithography. We obtained the prospect for the creation of three dimensional micro-structures including nano-wires.
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