Deposition of diamond films at low substrate temperature using nanopulse plasma
| Project/Area Number |
19360331
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Material processing/treatments
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| Research Institution | Nagoya University |
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Principal Investigator |
OHTAKE Naoto Nagoya University, 大学院・理工学研究科, 准教授 (40213756)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2009
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2009)
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| Budget Amount *help |
¥18,070,000 (Direct Cost: ¥13,900,000、Indirect Cost: ¥4,170,000)
Fiscal Year 2009: ¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000)
Fiscal Year 2008: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000)
Fiscal Year 2007: ¥9,360,000 (Direct Cost: ¥7,200,000、Indirect Cost: ¥2,160,000)
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| Keywords | プラズマ加工 / ダイヤモンド / 薄膜 / トライボロジー / ナノパルス |
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| Research Abstract |
低基板温度でダイヤモンド薄膜を合成する方法を開発した.パルス幅1μs未満のナノパルス電圧をフィラメント重畳させて,メタン+水素のプラズマからダイヤモンド膜合成を試みた結果,-5kV程度の高出力ナノパルスを援用することにより,フィラメント温度1500℃,基板温度はおよそ400℃でのダイヤモンドの合成に成功した.さらに,プラズマの発光の時間変化を計測し,フィラメントの低温化とともにパルス同士の相互作用が弱くなること,低温合成においては,ナノパルスによる結晶終端の水素引き抜き反応が結晶成長に大きな影響を与えていることを明らかにした.
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Report
(4 results)
Research Products
(15 results)
