Research Project
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
加熱金属表面における触媒分解過程が、これまでの還元性ラジカルの生成に加え、酸素原子やOHラジカルなどの酸化性ラジカルの選択的生成にも利用できることを示した。特に、イリジウムは、高温でも酸素や酸化窒素、水蒸気等によって酸化されることはなく、これを用いることにより金属汚染のない酸化物薄膜の成膜や表面処理が可能である。また、タングステンとイリジウムにおける発生ラジカル種の比較から、両者における反応過程の相違についての知見を得た。
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Jpn.J.Appl.Phys. 48[2]026503
Pages: 7-7
40016464779
Thin Solid Films 517, [12]
Pages: 3446-3448
Thin Solid Films (In press)
Jpn. J. Appl. Phys. 48
J.Phys.D : Appl.Phys. 41[22]225505
Pages: 5-5
Thin Solid Films 516, [10]
Pages: 3000-3004
J.Vac.Sci.Tech.A 26, [2]
Pages: 309-311
120000796463
J.Appl.Phys. 103, [3]034905
Pages: 6-6
Thin Solid Films 516, [5]
Pages: 829-831
Pages: 553-557
Pages: 500-502
月間ディスプレイ Vol.14, No.9
Pages: 49-56
Thin Solid Films 516
J. Phys. D : Appl. Phys. 41
月間ディスプレイ 14
J.Appl.Phys. 103
Pages: 34905-34905
J.Vac.Sci.Tech.A 26
J.Chem.Phys. 127, [1]014304
J.Chem.Phys. 127
Pages: 14307-14307
http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~thumemo/kaken08.pdf
http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~thumemo/kaken07.html