| Project/Area Number |
19550120
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Polymer chemistry
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
SUGIYAMA Kenji Tokyo Institute of Technology, 大学院・理工学研究科, 助教 (20282840)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000)
Fiscal Year 2008: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000)
Fiscal Year 2007: ¥2,860,000 (Direct Cost: ¥2,200,000、Indirect Cost: ¥660,000)
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| Keywords | 高分子合成 / 高分子構造・物性 / 自己組織化 / ナノ材料 / 表面・界面物性 / リビングアニオン重合 / パーフルオロアルキル基 / 官能基化ポリマー / 表面解析 / X線光電子分光法 / 接触角測定 / 撥油性 / 撥水性 |
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| Research Abstract |
申請者らが新規に開発した, アニオンリビング重合に基づく繰り返し法を適用することで, 高反応性のベンジルブロミド基, およびアミノ基を鎖末端に2, 4, 8個の有するポリスチレン(PS-Amn)の精密合成に初めて成功した. これにより, 繰り返し法による末端官能基導入法を拡張することで, 種々の官能基導入が可能であることが示された. また, 本手法が従来の高分子合成法よりも優れた機能性ポリマーの合成法であることが示された
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