Soft lithography based on photo-isomerization reaction controlling of hydrogen bonding
| Project/Area Number |
19550184
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Organic industrial materials
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| Research Institution | Chiba University |
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Principal Investigator |
TAKAHARA Shigeru Chiba University, 大学院・融合科学研究科, 准教授 (90272343)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
HOSHINO Katsuyoshi 千葉大学, 大学院・融合科学研究科, 教授 (50192737)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000)
Fiscal Year 2008: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
Fiscal Year 2007: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
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| Keywords | レジスト / リソグラフィー / 光パターニング / 光異性化 |
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| Research Abstract |
ヘモグロビンの代謝物であるビリルビンの光反応を, 工業的な画像複製技術であるリソグラフィープロセスへ応用した。反応活性種の発生しない光異性化反応によってビリルビン分子内の水素結合を解き, これに基づきビリルビン薄膜がほぼ中性の水に近い現像条件など穏やかな条件でポジ型の光パターニングができることを明らかにした。
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Report
(3 results)
Research Products
(9 results)
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[Presentation] Molecular photo-patterning materials2007
Author(s)
Atsumasa Takahashi, Park Chulho, Syuichi Otsuka and Shigeru Takahara
Organizer
Soft lithography process of Bilirubin layer 2007 International Symposium on Frontier Photoscience
Place of Presentation
Gyeongju, Korea
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