The pressure effect to the magnetic interlayer coupling in the Fe-Si system with semiconducting/ferromagnetic hetero-structure.
| Project/Area Number |
19560019
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Applied materials science/Crystal engineering
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| Research Institution | Fukuoka Institute of Technology |
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Principal Investigator |
TAKEDA Kaoru Fukuoka Institute of Technology, 工学部, 講師 (90236464)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
NAKANISI Takesi 福岡工業大学, 工学部, 准教授 (70297761)
KAJIWARA Tosiyuki 福岡工業大学, 工学部, 教授 (00185779)
吉武 剛 九州大学, 総合理工学研究院, 准教授 (40284541)
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| Co-Investigator(Renkei-kenkyūsha) |
YOSHITAKE Tuyoshi 九州大学, 総合理工学研究院, 准教授 (40284541)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000)
Fiscal Year 2008: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
Fiscal Year 2007: ¥2,470,000 (Direct Cost: ¥1,900,000、Indirect Cost: ¥570,000)
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| Keywords | ヘテロ構造 / スピントロニクス / 超格子 / 鉄シリサイド / 量子井戸 / 圧力効果 |
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| Research Abstract |
Fe-Si系半導体/強磁性体における磁化層間結合の圧力印加による効果を調べた。すなわちFe3Si/FeSi2超格子積層膜を炸裂し圧力印加下で室温において電気抵抗の変化を測定した。強磁性結合膜と反強磁性結合膜を比較した場合、反強磁性結合膜の方が抵抗変化率が大きい結果が得られた。このことが磁気層間結合に対してどのように関与しているかは、まだ不明である。また、圧力印加時に対して離散的なとびを持つ抵抗変化が観測された。
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Report
(3 results)
Research Products
(20 results)
