| Project/Area Number |
19560333
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Electron device/Electronic equipment
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| Research Institution | Utsunomiya University |
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Principal Investigator |
ISHII Kiyoshi Utsunomiya University, 大学院・工学研究科, 教授 (30134258)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
SAKUMA Hioshi 宇都宮大学, 大学院・工学研究科, 助教 (40375522)
SAITOU Yoshifumi 宇都宮大学, 大学院・工学研究科, 助教 (70251080)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000)
Fiscal Year 2008: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000)
Fiscal Year 2007: ¥2,990,000 (Direct Cost: ¥2,300,000、Indirect Cost: ¥690,000)
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| Keywords | 磁気記録媒体 / 垂直磁気記録媒体 / スパッタ膜 / ガスフロースパッタ法 / 鉄白金 / ガスフロースパヅタ法 / 低温規則化 / Co-Pt / Fe-Pt |
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| Research Abstract |
本研究では、宇都宮大学独自のガスフロースパッタ法を用いることにより、次世代の超高密度ハードディスク磁気記録媒体の実現を目指して、ナノ磁性粒子(次世代では太さが10nm、次次世代では5nm程度の縦長粒子または球形粒子)を敷き詰めた構造のナノ粒子薄膜の開発を目指した。その結果、幅約10 nmの柱状の粒子からなるCo-Ptナノ粒子構造薄膜作製に成功した。さらに、より大きな結晶磁気異方性を有するL10構造FePtについて同様な粒子構造を実現することを目指した。通常のスパッタ法では基板を加熱しないとL10構造の薄膜は得られないが、ガスロースパッタ法では基板加熱のない状態においても、規則度は低いがL10構造に規則化した薄膜が成長することを見出し、ナノ粒子構造の形成の可能性を明らかにした。
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