Beam generation of large anions in a solution for secondary ion mass spectrometry (SIMS)
| Project/Area Number |
19760029
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Thin film/Surface and interfacial physical properties
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| Research Institution | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology |
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Principal Investigator |
FUJIWARA Yukio National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 計測フロンティア研究部門, 研究員 (60415742)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥2,910,000 (Direct Cost: ¥2,700,000、Indirect Cost: ¥210,000)
Fiscal Year 2008: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000)
Fiscal Year 2007: ¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
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| Keywords | ビーム応用 / 二次イオン質量分析法(SIMS) / クラスタービーム / 大質量陰イオン / 負イオンビーム / 二次イオン質量分析 / SIMS / クラスター |
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| Research Abstract |
イオン性の化合物を溶液中に溶解し、陰イオンとして存在するイオン種をビーム化する技術に関して研究を実施した。具体的には、イオン性の化合物を有機溶媒中に溶解し、電離状態のイオン種を気相中に取り出すことを試みた。導電性キャピラリー内部に試料溶液を送液し、高電圧を印加した際に気相中に放出されるイオン電流を調べた。結果として、負イオンモードにおいて安定なビーム生成が可能であり、二次イオン質量分析(SIMS)に応用可能であることを確かめることができた。
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Report
(3 results)
Research Products
(4 results)
