simultaneous monitoring of multi-metallic atoms on sputtering process
| Project/Area Number |
19760508
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Material processing/treatments
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| Research Institution | Wakayama University |
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Principal Investigator |
OHTA Takayuki Wakayama University, システム工学部, 助教 (10379612)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥3,260,000 (Direct Cost: ¥2,900,000、Indirect Cost: ¥360,000)
Fiscal Year 2008: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
Fiscal Year 2007: ¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
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| Keywords | プラズマ診断 / スパッタリング / 吸収分光法 / プラズマ / 光源 / モニタリング |
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| Research Abstract |
スパッタプロセスは, 非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている. 本研究では, 高機能薄膜を高品質に形成するために, スパッタプラズマ中の数種類の金属原子密度を同時にモニタリングする技術の開発を目的とした. 具体的には, 金属原子密度測定用の吸収分光用光源の開発し, 透明導電膜製膜スパッタプラズマ中のInとZn原子密度の同時モニタリングを行い, 金属原子の絶対密度計測に成功した.
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Report
(3 results)
Research Products
(27 results)
