Development of ion implantation system for production of RI endohedral fullerenes

Research Project

Project/Area Number	19760609
Research Category	Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Allocation Type	Single-year Grants
Research Field	Nuclear engineering
Research Institution	Tokyo Institute of Technology
Principal Investigator	KATABUCHI Katabuchi Tokyo Institute of Technology, 原子炉工学研究所, 助教 (40312798)
Project Period (FY)	2007 – 2008
Project Status	Completed (Fiscal Year 2008)
Budget Amount *help	¥2,450,000 (Direct Cost: ¥2,300,000、Indirect Cost: ¥150,000) Fiscal Year 2008: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000) Fiscal Year 2007: ¥1,800,000 (Direct Cost: ¥1,800,000)
Keywords	内包フラーレン / イオン注入 / PIXE / 加速器 / 原子・分子物理 / 実験核物理 / ナノチューブ・フラーレン / 放射線
Research Abstract	RI内包フラーレン製造のためのイオン注入装置の設計・開発を行った。開発したイオン注入装置を用いて、希ガス内包フラーレンの生成実験を行った。実験で得られた試料をPIXE(荷電粒子励起X線放出)法による分析を行い、希ガス内包フラーレンの生成を確認した。生成量は、従来のイオン注入法により得られている値を大幅に上回っており、本研究により開発されたイオン注入装置が高効率で内包フラーレンを生成できることが分かった。

Report

(3 results)