Development of ion implantation system for production of RI endohedral fullerenes
| Project/Area Number |
19760609
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Nuclear engineering
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
KATABUCHI Katabuchi Tokyo Institute of Technology, 原子炉工学研究所, 助教 (40312798)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥2,450,000 (Direct Cost: ¥2,300,000、Indirect Cost: ¥150,000)
Fiscal Year 2008: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000)
Fiscal Year 2007: ¥1,800,000 (Direct Cost: ¥1,800,000)
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| Keywords | 内包フラーレン / イオン注入 / PIXE / 加速器 / 原子・分子物理 / 実験核物理 / ナノチューブ・フラーレン / 放射線 |
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| Research Abstract |
RI内包フラーレン製造のためのイオン注入装置の設計・開発を行った。開発したイオン注入装置を用いて、希ガス内包フラーレンの生成実験を行った。実験で得られた試料をPIXE(荷電粒子励起X線放出)法による分析を行い、希ガス内包フラーレンの生成を確認した。生成量は、従来のイオン注入法により得られている値を大幅に上回っており、本研究により開発されたイオン注入装置が高効率で内包フラーレンを生成できることが分かった。
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Report
(3 results)
Research Products
(3 results)
