Titania films on titanium implant prepared by ECR plasma CVD oxidation.

Research Project

Project/Area Number	19791422
Research Category	Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Allocation Type	Single-year Grants
Research Field	補綴理工系歯学
Research Institution	Tohoku University
Principal Investigator	HATORI Kouki Tohoku University, 大学院・歯学研究科, 助教 (40372320)
Project Period (FY)	2007 – 2008
Project Status	Completed (Fiscal Year 2008)
Budget Amount *help	¥3,650,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥450,000) Fiscal Year 2008: ¥1,950,000 (Direct Cost: ¥1,500,000、Indirect Cost: ¥450,000) Fiscal Year 2007: ¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
Keywords	ECRプラズマCVD法 / チタンインプラント / 多孔性チタニア膜 / 表面改質 / インターフェイス / 骨誘導インプラント / ECRプラズマ酸化 / 多孔質チタン / 薄膜引張り試験 / ぬれ性試験 / 超親水性 / 表面改質チタン / 石灰化能 / 生体親和性 / ECRプラズマ / チタニア膜
Research Abstract	これまでに, 申請者は電子サイクロトロンプラズマ金属錯体析出法(ECRプラズマCVD法)を利用して純チタン表面上に多孔性チタニア膜を析出させることにより表面改質に従事してきた. 多孔性チタニア膜の成膜条件を変化させることにより, 多孔性チタニア膜の膜性状が変化することが確認された. また, 各種膜性状に応じて石灰可能・ぬれ性が異なることが確認された.