Research Project
Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
シリコンカーバイド(0001)基板上に成長させた結晶性シリコン酸窒化超薄膜の界面構造と電子状態を明らかにし、さらにその上への金属超薄膜の成長を試みた。X線回折法、光電子分光法、X線吸収・発光分光法、第一原理計算による検証の結果、絶縁膜と基板界面は原子レベルで急峻であり、理想的なバンドオフセット構造を有することを明らかにした。この成果は高性能SiC-MOSデバイスへの適応を期待させるものである。
All 2009 2008 2007
All Journal Article (12 results) (of which Peer Reviewed: 8 results) Presentation (15 results)
Physical Review Brapid communication (掲載決定)
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 7
Pages: 525-528
Pages: 513-517
Pages: 533-536
130004934070
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 6
Pages: 281-285
応用物理 77
Pages: 1240-1243
10021979681
固体物理 43
Pages: 231-237