| Project/Area Number |
19H02046
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Review Section |
Basic Section 18020:Manufacturing and production engineering-related
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| Research Institution | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology |
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Principal Investigator |
Kenta Suzuki 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (60709509)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
Youn SungーWon 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (80510065)
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| Project Period (FY) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2021)
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| Budget Amount *help |
¥17,680,000 (Direct Cost: ¥13,600,000、Indirect Cost: ¥4,080,000)
Fiscal Year 2021: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000)
Fiscal Year 2020: ¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000)
Fiscal Year 2019: ¥8,970,000 (Direct Cost: ¥6,900,000、Indirect Cost: ¥2,070,000)
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| Keywords | ナノインプリント / NIL / スループット / 凝縮性ガス / 微小液滴 / リソグラフィ / 光ナノインプリント / 充填 / ナノパターン / 飽和蒸気圧 |
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| Outline of Research at the Start |
光ナノインプリントは最先端リソグラフィへの応用が検討されており、更なるプロセスの高速化や低欠陥化が求められている。ハイドロフルオロオレフィン系の飽和蒸気圧の異なる凝縮性ガスを混合導入するナノインプリント手法は、低欠陥で高品質なパターニングと樹脂の充填の超高速化の可能性があり、本研究では、インクジェットによる微小液滴に対して本手法の適用性を示すことにより、超高速の光ナノインプリントリソグラフィの実現を目指す。
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| Outline of Final Research Achievements |
Droplet-dispensed ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL) has expected to a next generation lithography technology for semiconductor devices, but process throughput is an issue. UV-NIL in trans-1,3,3,3-tetrafluoro-propene (TFP) and 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene (CTFP) gases has enabled bubble-free and high-throughput processes. This study investigated the applicability of a mixed condensable TFP/CTFP gas to droplet-dispensed UV-NIL. The filling time in a local area of the mold in a mixed condensable gas atmosphere was as low as 1/30th that in helium. Fine line patterns with a width of 12 nm were obtained by droplet-dispensed UV-NIL in the TFP/CTFP mixed gas atmosphere.
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| Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements |
本研究課題は、次世代半導体のリソグラフィ技術の一つであるナノインプリントリソグラフィに係わる研究内容である。ナノインプリントの課題である樹脂充填の高速化に着目し、混合凝縮性ガスを導入するナノインプリント技術を開発し、課題解決の糸口を示した。本研究成果は、半導体分野のみならず、ナノ加工技術の発展につながると期待される。
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