| Project/Area Number |
19K05663
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Allocation Type | Multi-year Fund |
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| Section | 一般 |
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| Review Section |
Basic Section 36010:Inorganic compounds and inorganic materials chemistry-related
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| Research Institution | National Institutes for Quantum Science and Technology |
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Principal Investigator |
Yoshimura Kimio 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主幹研究員 (40549672)
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| Project Period (FY) |
2019-04-01 – 2023-03-31
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2022)
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| Budget Amount *help |
¥3,770,000 (Direct Cost: ¥2,900,000、Indirect Cost: ¥870,000)
Fiscal Year 2021: ¥390,000 (Direct Cost: ¥300,000、Indirect Cost: ¥90,000)
Fiscal Year 2020: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000)
Fiscal Year 2019: ¥2,470,000 (Direct Cost: ¥1,900,000、Indirect Cost: ¥570,000)
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| Keywords | パルスEUV / リソグラフィ / レジスト材料 / セラミック前駆体高分子 / 有機－無機転換 / 有機ー無機転換 / 有機-無機転換 |
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| Outline of Research at the Start |
微細化が進む光リソグラフィ技術は、光源の波長に起因するパターン幅の理論限界を迎え、現在、波長が13.5 nmの軟X線である極短紫外線（EUV）にシフトしている。EUV光源に特化した感光性高分子（レジスト材料）が存在しないことや、EUVの光源強度が問題になっている現状に対して、本研究では、次世代のEUV光源のパルスEUVを用いて、照射により付与されるエネルギーを、無機セラミックス前駆体高分子の架橋反応と焼成に利用する、新たなEUV用レジストプロセスの開発を行う。本プロセスの確立により、変形や倒壊の起こらない、高ドライエッチング耐性のEUV用無機セラミックレジスト材料を提供できる。
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| Outline of Final Research Achievements |
The ability of the polymer blends of polycarbosilane and allylhydride polycarbosylane, a ceramic precursor polymer, was investigated for the development of resist materials and resist processes specialized for the pulsed EUV light sources.
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| Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements |
本研究は、現状のEUV露光プロセスの問題点である低解像度と低エッチング耐性の両方を一気に解決するEUV用無機レジストを市場に提案できるため、世界市場規模が年間40兆円の半導体分野において、関連企業の興味を引く技術になると考えられ、大きな社会的インパクトを有する。また、これまでの光露光プロセスでは、光化学、光物理を含む基礎科学に立脚した研究開発がなされてきたが、電離放射線としての性質が強いEUVの、レジスト材料に及ぼす放射線物理・化学作用がほとんど解明されていない現状に対し、無機レジストの提唱に加え、放射線化学に基づくEUVレジスト材料の研究、開発を行う点において独自性と創造性に富んでいる。
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