Nitrogen termination of diamond surface and its electric conductivity

• Project/Area Number: 20760489
• Research Category: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Research Field: Material processing/treatments
• Research Institution: The University of Tokyo
• Principal Investigator: NOSE Kenji The University of Tokyo, 生産技術研究所, 助教 (10451882)
• Project Period (FY): 2008 – 2009
• Project Status: Completed (Fiscal Year 2009)
• Budget Amount: ¥4,290,000 (Direct Cost: ¥3,300,000、Indirect Cost: ¥990,000); Fiscal Year 2009: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000); Fiscal Year 2008: ¥2,210,000 (Direct Cost: ¥1,700,000、Indirect Cost: ¥510,000)
• Keywords: ダイヤモンド / 表面 / プラズマ / 終端 / 気相合成 / 電気伝導 / 電子放出 / マイクロ波プラズマ / CVD / 表面終端 / 表面伝導 / ワイドバンドギャップ半導体 / 終端構造

Research Abstract

Surface termination of diamond and its electric conductivity were examined. Electro-chemical reaction in ammonia water resulted not in the termination containing nitrogen but in the oxidation of the surface. It was found that small diamond particles were deposited on the substrate surface. These particles have sharp crystal edges characterized by crystal habits, exhibited electron emission at relatively low electric field in vacuum.

Research Products

• [Journal Article] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition (2009)
  • Author(s): K. Nose, Y. Mitsuda.
  • Journal Title: Proceeding paper of the 19th International Symposium on Plasma Chemistry No.541 Pages: 1-4
• [Journal Article] Effects of magnesium doping on growth and electric conductivity of nanocrystalline cubic boron nitirde thin films (2009)
  • Author(s): K. Kojima, K. Nose, M. Kambara, T. Yoshida.
  • Journal Title: Journal of Physics D: Appl. Phys. 42No055304 Pages: 1-5
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Effects of magnesium doping on growth and electric conductivity of nanocrystalline cubic boron nitride thin films (2009)
  • Author(s): K. Kojima, K. Nose, M. Kambara, T. Yoshida
  • Journal Title: Journal of Physics D : Appl. Phys 42
  • Peer Reviewed
• [Presentation] 気相合成ダイヤモンド粒子からの電子放出の面内分布 (2010)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 神奈川, 東海大学
  • Year and Date: 2010-03-18
• [Presentation] InAlAs/InGaAs多重量子井戸へテロ界面2次元電子系からの電界電子放出 (2010)
  • Author(s): 板倉祥哲, 松本益明、福谷克之、岡野達雄、平川和彦、野瀬健二、光田好孝、谷口昌宏、西川治
  • Organizer: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 東海大学、神奈川
  • Year and Date: 2010-03-17
• [Presentation] InAlAs/InGaAs多重量子井戸ヘテロ界面2次元電子系からの電界電子放出 (2010)
  • Author(s): 板倉祥哲
  • Organizer: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 神奈川, 東海大学
  • Year and Date: 2010-03-17
• [Presentation] 気相合成ダイヤモンド粒子からの電子放出の面内分布 (2010)
  • Author(s): 野瀬健二、光田好孝
  • Organizer: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 東海大学、神奈川
  • Year and Date: 2010-03-15
• [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第23回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 千葉工業大学、千葉
  • Year and Date: 2009-11-19
• [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第23回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 千葉, 千葉工業大学
  • Year and Date: 2009-11-18
• [Presentation] マイクロ波プラズマCVDにおけるダイヤモンド核形成環境 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第6回ヤングメタラジスト研究交流会
  • Place of Presentation: 東京工業大学、東京
  • Year and Date: 2009-10-22
• [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第6回ヤングメタラジスト研究交流会
  • Place of Presentation: 東京, 東京工業大学
  • Year and Date: 2009-10-22
• [Presentation] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition (2009)
  • Author(s): K. Nose, Y. Mitsuda
  • Organizer: International Symposium on Plasma Chemistry
  • Place of Presentation: Bochum, Germany
  • Year and Date: 2009-07-30
• [Presentation] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 19^<th> International symposium of plasma chemistry
  • Place of Presentation: Bochum, Germany
  • Year and Date: 2009-07-30
• [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 筑波大学、茨城
  • Year and Date: 2009-04-01
• [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 茨城, 筑波大学
  • Year and Date: 2009-04-01
• [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二、光田好孝
  • Organizer: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 筑波大学、茨城県
  • Year and Date: 2009-04-01
• [Presentation] 立方晶窒化ホウ素への置換型不純物が形成するエネルギー準位の計算 (2008)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第22回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 早稲田大学、東京
  • Year and Date: 2008-10-21
• [Presentation] 立方晶窒化ホウ素への置換型不純物が形成するエネルギー準位の計算 (2008)
  • Author(s): 野瀬健二、光田好孝
  • Organizer: 第22回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 早稲田大学、東京都
  • Year and Date: 2008-10-21
• [Presentation] A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrate in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond (2008)
  • Author(s): K. Nose, Y. Mitsuda.
  • Organizer: 17 th World Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-17
• [Presentation] A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrates in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamon (2008)
  • Author(s): K. Nose and Y. Mitsuda
  • Organizer: 17th world Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-17
• [Presentation] Growth and in-situ sulfur doping to diamond thin films in a microwave-plasma chemical vapor deposition (2008)
  • Author(s): Y. Mitsuda, K. Nose
  • Organizer: 17 th World Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-16
• [Presentation] Growth and in-situ sulfur doping to diamond thin films in a microwave-plasma chemical vapor deposition (2008)
  • Author(s): Y. Mitsuda and K. Nose
  • Organizer: 17th world Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-16
• [Book] Industrial Plasma Technology (2010)
  • Author(s): K. Nose, T. Yoshida edited by Y. Kawai, et al.
  • Publisher: Wiley-VCH
• [Book] Industrial Plasma Technology (2010)
  • Author(s): Yoshinobu Kawai, Hideo Ikegami, Noriyoshi Sato, Akihisa Matsuda, Kiichiro Uchino, Masayuki Kuzuya, Akira Mizuno
  • Publisher: Wiley-VCH
• [Remarks] において研究の概略を公開している
  • URL: http://www.ips.iis.u-tokyo.ac.jp/
• [Remarks] 2008年5月29-31日、2009年5月28-30日に開催された「駒場リサーチキャンパス公開」において、一般向けのポスターセッションとして研究成果を公開した
• [Remarks]
  • URL: http://www.ips.iis.u-tokyo.ac.jp/
• [Remarks]
  • URL: http://www.ips.iis.u-tokyo.ac.jp/