Development of quantum sensing technique by using single photon sources embedded in 4H-SiC MOSFET
| Project/Area Number |
20J15088
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 国内 |
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| Review Section |
Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
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| Research Institution | University of Tsukuba |
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Principal Investigator |
阿部 裕太 筑波大学, 数理物質科学研究科, 特別研究員(DC2)
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| Project Period (FY) |
2020-04-24 – 2022-03-31
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2021)
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| Budget Amount *help |
¥1,600,000 (Direct Cost: ¥1,600,000)
Fiscal Year 2021: ¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
Fiscal Year 2020: ¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
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| Keywords | 単一光子源 / カラーセンター / 電子スピン共鳴 / MOS界面 / MOSFET / 点欠陥 / si vacancy / 量子センシング |
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| Outline of Research at the Start |
炭化ケイ素（SiC）と酸化膜（SiO2）の界面に発生する欠陥（本研究では界面SPSと呼んでいる）のもつ電子スピンを用いた量子センシング技術の開発を目指す。界面SPSの電子スピン特性を明らかにするために光検出磁気共鳴（ODMR）による測定を行う。ただし、界面SPSは特定の荷電状態のときでのみ電子スピンを持つことが予想されるため、MOS型電界効果トランジスタ（MOSFET）を用い、ゲート電圧印加によって界面SPSの荷電状態の制御を試みる。
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| Outline of Annual Research Achievements |
炭化ケイ素（4H-SiC）中の単一光子源（SPS）をもちいて量子センシングを実現するために、界面SPSと呼ばれるMOS界面に発生するSPSを光学的に評価してきたが、界面SPSはMOSFETのゲート電圧に依存して発光強度を変化させるものの依然起源がわからず電子スピンの有無も判明しなかった。そこで、バルクではスピン制御も実証されているSPSとして知られるシリコン空孔（VSi）を、陽子線照射によってMOS界面に作り出すことで界面SPSと同様の系で量子センシング実現を目指した。通常、VSiの電子スピン検出には光検出磁気共鳴（ODMR）という、電子スピン共鳴（ESR）をVSiの発光強度の変化を用いて検出する手法が用いられているが、本研究ではデバイス中にVSiが発生している利点を生かすべく、電流検出磁気共鳴（EDMR）という手法での検出を試みた。VSiのESR信号は2種類あり、それらは空孔ができる格子点位置（hサイト/kサイト）の違いによって分けられている。このうちkサイトのVSiのESR信号をTV2aセンターと呼び、VSiを用いた先行研究ではTV2aセンターを対象にODMRを用いて研究が行われていた。しかし、EDMRの場合、hサイト型の検出例はあるものの、TV2aセンターの検出例がなかった。
本研究では、4H-SiC MOSFETを用いてTV2aセンターのEDMRによる電気信号での検出に成功した。さらにTV2aセンター信号強度がゲート電圧に依存して変化し、-3Vから1Vの間で最大値をとることを確認した。また、CV測定を実施しMOS界面のフェルミ準位を算出したところ、ちょうど前述のゲート電圧帯付近でVSiの荷電状態が負に変化していることがわかった。以上のことから、VSiの荷電状態をMOSFETのゲート電圧によって制御できることが示唆された。
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| Research Progress Status |
令和3年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
令和3年度が最終年度であるため、記入しない。
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Report
(2 results)
Research Products
(2 results)
