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Study of low-loss diamond power FET with operation in harsh environments

Research Project

Project/Area Number 20K04595
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Allocation TypeMulti-year Fund
Section一般
Review Section Basic Section 21060:Electron device and electronic equipment-related
Research InstitutionKanazawa University

Principal Investigator

Kawe Takeshi  金沢大学, 電子情報通信学系, 准教授 (30401897)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 岡崎 宏之  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主任研究員 (90637886)
Project Period (FY) 2020-04-01 – 2023-03-31
Project Status Completed (Fiscal Year 2022)
Budget Amount *help
¥4,290,000 (Direct Cost: ¥3,300,000、Indirect Cost: ¥990,000)
Fiscal Year 2022: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000)
Fiscal Year 2021: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000)
Fiscal Year 2020: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000)
Keywordsダイヤモンド / 強誘電体 / 電界効果トランジスタ / パワーデバイス / ガンマ線照射 / 強誘電体ゲート電界効果トランジスタ / 放射線
Outline of Research at the Start

本研究では、ダイヤモンドとBFOを融合したFeFETパワーデバイスを開発し、過酷環境での動作を実証する。研究遂行により、放射線照射および高温環境に対するFeFETの耐性限界の要因と解決策を明らかにし、静止軌道および廃炉現場を想定した環境耐性(ガンマ線トータルドーズ:1000Gy/10年、動作温度:300℃)の獲得に向けて以下の研究項目に取り組む。
【①】FeFETパワーデバイスの作製技術の確立(令和2年度)
【②】過酷環境下におけるデバイス動作の検証(令和2~3年度)
【③】動作限界の要因同定と解決策の検討(令和3~4年度)

Outline of Final Research Achievements

In this study, we fabricated a field effect transistor (FeFET) consisting of a wide-gap semiconducting diamond and a ferroelectric Pb(Zr,Ti)O3 (PZT) gate structure, and investigated its operation in harsh environments.
As a preliminary verification, a FeFET structure with a wide-gap semiconductor ZnO as a channel was irradiated with γ-rays, and the main degradation factors of the device characteristics were investigated. Next, high-intensity γ-ray irradiation was performed on the selective grown diamond channel and PZT gate structure, and it was demonstrated that the characteristics did not deteriorate even at the maximum dose of 15.4 kGy.
The above results clarified the superiority of diamond FeFET for operation in harsh environments, and we believe that it will contribute to the development of power devices using this structure.

Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements

宇宙空間・廃炉現場といった過酷環境下における電気エネルギーの有効活用に資する新しいパワーデバイスとして、強誘電体をゲートとした電界効果トランジスタ(FeFET)を提案し、その過酷環境動作を検証した。
ダイヤモンドと無機強誘電体で構成するFeFETは、宇宙環境で想定される高強度γ線照射に対して、他材料系で構成されるデバイスと比して非常に優れた耐性を有している事を明らかにした。この結果は、全世界で精力的に進められている宇宙開発・産業育成に対し、本研究が明らかにした新たなデバイス構造に関する知見が学術的成果のみならず人類社会の発展に大きく貢献するものである。

Report

(4 results)
  • 2022 Annual Research Report   Final Research Report ( PDF )
  • 2021 Research-status Report
  • 2020 Research-status Report
  • Research Products

    (14 results)

All 2023 2022 2021 2020

All Journal Article (3 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Peer Reviewed: 3 results) Presentation (9 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 1 results) Book (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] エッチング装置・薬液を必要としない,酸化物薄膜の微細加工技術2022

    • Author(s)
      川江健
    • Journal Title

      化学工業

      Volume: 73 Pages: 109-115

    • Related Report
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    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Radiation resistance of diamond FeFET with inorganic ferroelectric gate2022

    • Author(s)
      T. Kawae, H. Okazaki, T. Yamaki
    • Journal Title

      QST Takasaki Annual Report 2021

      Volume: QST-M-39 Pages: 43-43

    • Related Report
      2022 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Selective Growth and Micropatterning Technique for Oxide Thin Films by Sacrificial a-CaO Layer2021

    • Author(s)
      Antoro Iwan Dwi、Kawae Takeshi
    • Journal Title

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      Volume: 10 Issue: 8 Pages: 083005-083005

    • DOI

      10.1149/2162-8777/ac1c9d

    • Related Report
      2021 Research-status Report
    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Presentation] ダイヤモンド基板上へのPb(Zr,Ti)O3を用いたMFIS構造の作製2022

    • Author(s)
      高橋克弥、松本 翼、徳田規夫、川江 健
    • Organizer
      強的秩序とその操作に関わる第15回 夏の学校
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    • Author(s)
      高橋克弥、水戸守輝、山河智哉、松本 翼、徳田規夫、岡崎宏之、八巻徹也、川江 健
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      第6回 有機・無機エレクトロニクスシンポジウム
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      梶谷亮介、川江 建
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      第83回 応用物理学会 秋季学術講演会
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      芦原凜太郎、河原正美、川江 建
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      芦原凛太郎、河原正美、岡崎宏之、山本春也、川江 健
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      第82回 応用物理学会 秋季学術講演会
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      Iwan Dwi Antoro, and Takeshi Kawae
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      橋本 歩、玉村 達哉、川江 健
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      強的秩序とその操作に関わる研究会 第12回講演会
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      Takeshi Kawae
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      4th International Seminar on Metallurgy and Materials 2020 Invitation
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    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Book] 月刊「化学工業」2022

    • Author(s)
      川江健
    • Total Pages
      7
    • Publisher
      化学工業社
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  • [Patent(Industrial Property Rights)] 酸化物膜のパターン形成方法2023

    • Inventor(s)
      川江健, 梶谷亮介, 後閑拓也, 大澤信
    • Industrial Property Rights Holder
      川江健, 梶谷亮介, 後閑拓也, 大澤信
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2023-026832
    • Filing Date
      2023
    • Related Report
      2022 Annual Research Report

URL: 

Published: 2020-04-28   Modified: 2024-01-30  

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