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IoTデバイス向け低電圧・不揮発性SRAMの研究開発

Research Project

Project/Area Number 20K11730
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Allocation TypeMulti-year Fund
Section一般
Review Section Basic Section 60040:Computer system-related
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

山本 修一郎  東京工業大学, 科学技術創成研究院, 特任講師 (50313375)

Project Period (FY) 2020-04-01 – 2025-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2023)
Budget Amount *help
¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000)
Fiscal Year 2022: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000)
Fiscal Year 2021: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000)
Fiscal Year 2020: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000)
KeywordsCMOS / SRAM / 不揮発性メモリ / 低電圧動作 / パワーゲーティング / FinFET / NV-SRAM / MTJ / IoT / CMOSロジック
Outline of Research at the Start

本研究課題では,IoTデバイスに用いる低電圧CMOSロジックシステムに搭載が可能な不揮発性SRAM(NV-SRAM)の研究開発を行う.強磁性トンネル接合(MTJ)と通常のSRAMセルを接続したNV-SRAMセルを高閾値デバイスで構成し,低電圧駆動による大幅な動的消費エネルギーの削減と,さらに不揮発記憶を用いたパワーゲーティング(PG)による待機時電力の削減が可能な回路・アーキテクチャ技術を開発する.特に,MTJへの書き込みエネルギーを大幅に削減できるアーキテクチャを開発して,PGの時間的細粒度化を行い,低電圧下であっても高効率に待機時電力を削減できるNV-SRAMの基盤技術を構築する.

Outline of Annual Research Achievements

本研究課題では,IoTデバイス等,低電圧駆動・低消費電力CMOSロジックシステムに搭載が可能な不揮発性SRAM(NV-SRAM)の研究開発を行う.強磁性トンネル接合(MTJ)をSRAMセルの通常動作に悪影響を及ぼさないように接続したNV-SRAMセルを構成し,低電圧駆動による大幅な動的消費エネルギーの削減と,さらに不揮発記憶を用いたパワーゲーティング(PG)による待機時電力の削減が可能な回路・アーキテクチャ技術を開発する.また,MTJへの書き込みエネルギーを大幅に削減できるアーキテクチャを開発して,PGの時間的細粒度化を行い,高効率に待機時電力を削減できるNV-SRAMの基盤技術を構築する.
本年度は,昨年度実施したFinFETを用いた低電圧駆動NV-SRAMセルの検討結果をベースにして0.5VでSRAMの通常動作とMTJへの書き込みの両方が可能なセル・アーキテクチャを確立して,そのPG性能を詳細に評価した.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

NV-SRAMには強磁性トンネル接合(MTJ)を6Tセルの記憶ノードにトランジスタを介して接続したセルを用いた.はじめに,昨年度と開発したセル設計法に基づき,0.5Vの電源電圧で MTJへのストア電流値とSRAMの全動作に関するstatic noise margin(SNM)を指標に用い,さらにデバイスのローカルランダムばらつき解析から6σの極めて低い不良率を満たすようにセルの設計を行った.次に,このセルを用いてPGの解析を行った.
PG性能の評価は,スタンバイ時間(tSB)の分布関数(出現確率密度)を平均値μ,標準偏差σの正規分布で与え,tSB>BETʹの場合はPGを実施するアーキテクチャを用いた.ここで,BETʹは損益分岐時間とPGによる電源遮断およびこれから復帰するのに要する時間から決まる指標である.PGによってエネルギーの削減できるμおよびσの範囲はNV-SRAMの容量に依存するが,IoT応用に想定されるμ,σの領域で十分なエネルギー削減性能が得られることを明らかにした.また,MTJへのストア動作をスキップするアーキテクチャを導入することで,エネルギーの削減できるμ,σの領域を拡大し,より細粒度のPGを実現できることを示した.

Strategy for Future Research Activity

本年度の研究開発から明らかになったPGの細粒度化の可能なストアフリー・アーキテクチャを実装できるマクロの設計を行う.このマクロの開発ではマクロ内にMTJへのストア動作を行わないブロック情報を保持し,PG時にこの情報に基づきMTJへのストア動作をスキップして優先的に電源遮断を行い,エネルギー削減効率を向上させる.開発したマクロを用いて,PG性能の評価を行う.

Report

(4 results)
  • 2023 Research-status Report
  • 2022 Research-status Report
  • 2021 Research-status Report
  • 2020 Research-status Report
  • Research Products

    (6 results)

All 2022 2021

All Presentation (6 results) (of which Invited: 1 results)

  • [Presentation] FinFETを用いた低電圧駆動不揮発性SRAM (NV-SRAM)の設計2022

    • Author(s)
      山崎修,塩津勇作,山本修一郎,菅原聡
    • Organizer
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
  • [Presentation] ニアスレッショルド電圧駆動ULVR-SRAMのパワーゲーティング性能2022

    • Author(s)
      加藤岳人,塩津勇作,山本修一郎,菅原聡
    • Organizer
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
  • [Presentation] 不揮発性SRAM:エッジコンピューティングの革新的低消費電力技術2021

    • Author(s)
      塩津勇作,山本修一郎,菅原聡
    • Organizer
      日本学術振興会先進薄膜界面機能創成委員会第6回研究会
    • Related Report
      2021 Research-status Report
    • Invited
  • [Presentation] ニアスレッショルド電圧動作ULVR-SRAMマクロの設計と解析2021

    • Author(s)
      原拓実,塩津勇作,山本修一郎,菅原聡
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • Related Report
      2021 Research-status Report
  • [Presentation] ニアスレッショルド電圧動作超低電圧リテンションSRAMの設計と性能解析2021

    • Author(s)
      原拓実,塩津勇作,山本修一郎,菅原聡
    • Organizer
      LSIとシステムのワークショップ2021
    • Related Report
      2021 Research-status Report
  • [Presentation] ニアスレッショルド電圧動作ULVR-SRAMセルの設計2021

    • Author(s)
      原拓実,吉田隼,塩津勇作,山本修一郎,菅原聡
    • Organizer
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • Related Report
      2020 Research-status Report

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Published: 2020-04-28   Modified: 2024-12-25  

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