局所電流注入による窒化物半導体の発光効率分布可視化手法の開発

• Project/Area Number: 21K14545
• Research Category: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: Basic Section 30010:Crystal engineering-related
• Research Institution: Mie University
• Principal Investigator: 上杉 謙次郎 三重大学, 研究基盤推進機構, 准教授 (40867305)
• Project Period (FY): 2021-04-01 – 2024-03-31
• Project Status: Discontinued (Fiscal Year 2023)
• Budget Amount: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000); Fiscal Year 2023: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000); Fiscal Year 2022: ¥520,000 (Direct Cost: ¥400,000、Indirect Cost: ¥120,000); Fiscal Year 2021: ¥2,990,000 (Direct Cost: ¥2,300,000、Indirect Cost: ¥690,000)
• Keywords: 窒化物半導体 / 顕微分光 / 深紫外発光ダイオード / 原子間力顕微鏡

Outline of Research at the Start

III窒化物半導体を用いた発光素子は、結晶成長中の表面平坦性の揺らぎや貫通転位を主たる起源とした混晶組成や膜厚の不均一性を内包するため、発光効率に空間的な分布が生じる。高効率な発光素子の実現には、顕微分光測定を用いて発光効率分布を評価する必要がある。本研究では、発光素子の局所領域に限定して電流を注入することで、電流注入動作している素子の発光効率分布を、電流密度の不均一性に影響されることなく高空間分解能で可視化することを目的に行う。

Outline of Annual Research Achievements

III族窒化物半導体を用いた発光素子の中でも特にAlGaNをベースとした深紫外発光ダイオード(DUV-LED)は殺菌用紫外線光源として注目されている。本研究は、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた局所電流注入型の顕微エレクトロルミネッセンス測定手法を確立し、DUV-LEDの電流注入動作時の発光効率分布を、電流密度分布の影響なく高空間分解能で可視化することを目的とする。
2023年度は、電流注入による試料からのEL発光を確認するため、カンチレバーから注入できる電流を増大させることと平面走査中の注入電流を安定させることを目的として、カンチレバーの曲率半径とばね定数を変更し測定条件の探索を行った。加えて、表面モフォロジーと発光特性分布の関係について電流注入測定へとフィードバックするために、試料表面にマーキングを施してAFMとカソードルミネッセンス(CL)で同一箇所の評価を試みた。電流注入によるEL測定は、十分な発光強度を観察できるだけの電流を注入することができなかったが、AFM観察により取得した結晶表面のステップテラス構造の形状とCL測定により取得した発光強度分布に高い相関性が確認された。ステップテラス構造の形状に起因してIII族原子の組成や点欠陥生成確率に揺らぎが生じ、キャリアの局在や発光再結合確率の不均一を引き起こしていることを示唆する結果である。
本研究では局所電流注入によるDUV-LEDの顕微発光特性評価手法開発および関連する物性評価を実施するとともに、DUV-LEDの結晶品質向上に取り組んだ。本研究を通して波長265 nmおよび230 nm帯LEDの外部量子効率向上を実現したほか、今後の深紫外発光素子の特性向上につながる知見を得ることができた。

Research Products

• [Journal Article] Optical characterization of point defects on internal quantum efficiency in AlGaN quantum wells grown on face-to-face-annealed sputtered AlN templates (2023)
  • Author(s): Satoshi Kurai, Megumi Fujii, Yuta Ohnishi, Ryota Oshimura, Kosuke Inai, Kunio Himeno, Narihito Okada, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake, and Yoichi Yamada
  • Journal Title: AIP Advances Volume: 13 Issue: 4 Pages: 045319-045319
  • DOI: 10.1063/5.0145131
  • Peer Reviewed / Open Access
• [Journal Article] MOVPE growth of AlN and AlGaN films on N-polar annealed and sputtered AlN templates (2023)
  • Author(s): Namikawa Gaku、Shojiki Kanako、Yoshida Riku、Kusuda Ryusei、Uesugi Kenjiro、Miyake Hideto
  • Journal Title: Journal of Crystal Growth Volume: 617 Pages: 127256-127256
  • DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2023.127256
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Polarity control of sputter-deposited AlN with high-temperature face-to-face annealing (2023)
  • Author(s): Shojiki Kanako、Uesugi Kenjiro、Xiao Shiyu、Miyake Hideto
  • Journal Title: Materials Science in Semiconductor Processing Volume: 166 Pages: 107736-107736
  • DOI: 10.1016/j.mssp.2023.107736
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 263 nm wavelength UV-C LED on face-to-face annealed sputter-deposited AlN with low screw- and mixed-type dislocation densities (2022)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Takao Nakamura, Masataka Kubo, Hideto Miyake
  • Journal Title: Applied Physics Express Volume: 15 Issue: 5 Pages: 055501-055501
  • DOI: 10.35848/1882-0786/ac66c2
  • Peer Reviewed / Open Access
• [Journal Article] Effect of the Sputtering Deposition Conditions on the Crystallinity of High-Temperature Annealed AlN Films (2021)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi,Kanako Shojiki,Shiyu Xiao,Shigeyuki Kuboya,Hideto Miyake
  • Journal Title: Coatings Volume: 11 Issue: 8 Pages: 956-956
  • DOI: 10.3390/coatings11080956
  • Peer Reviewed / Open Access
• [Journal Article] Thermal strain analysis considering in-plane anisotropy for sputtered AlN on c- and a-plane sapphire under high-temperature annealing (2021)
  • Author(s): Yusuke Hayashi,Kenjiro Uesugi,Kanako Shojiki,Tetsuya Tohei,Akira Sakai,Hideto Miyake
  • Journal Title: AIP Advances Volume: 11 Issue: 9 Pages: 095012-095012
  • DOI: 10.1063/5.0059723
  • Peer Reviewed / Open Access
• [Journal Article] Extremely high internal quantum efficiency of AlGaN-based quantum wells on face-to-face annealed sputter-deposited AlN templates (2021)
  • Author(s): Murotani Hideaki、Fujii Atsushi、Oshimura Ryota、Kusaba Takafumi、Uesugi Kenjiro、Miyake Hideto、Yamada Yoichi
  • Journal Title: Applied Physics Express Volume: 14 Issue: 12 Pages: 122004-122004
  • DOI: 10.35848/1882-0786/ac3802
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Fablication of AlN templates by high-temperature face-to-face annealing for deep UV LEDs (2021)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Journal Title: Japanese Journal of Applied Physics Volume: 60 Issue: 12 Pages: 120502-120502
  • DOI: 10.35848/1347-4065/ac3026
  • Peer Reviewed
• [Presentation] Homo-epitaxial growth on high-temperature annealed AlN template and device applications (2023)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Shuhei Ichikawa, Takao Nakamura, Masahiko Tsuchiya, Kazunobu Kojima, Hideto Miyake
  • Organizer: 6th International Workshop on UV Materials and Devices (IWUMD2023)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Deep- and Far-UV LEDs on HTA-AlN (2023)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Organizer: Advances in III-Nitride Materials & Photonic Devices (IIIN-MPD)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Progress in UV-C LEDs on face-to-face annealed sputter-deposited AlN templates (2023)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Takao Nakamura, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Impact of Oxygen Concentration on Polarity of Face-to-Face Annealed Sputtered AlN (2023)
  • Author(s): Kanako Shojiki, Kenjiro Uesugi, Shiyu Xiao, Hideto Miyake
  • Organizer: International Workshop on Magnetron Sputter Epitaxy (IWMSE)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Fabrication of deep UV LEDs with a high-quality AlGaN on face-to-face annealed sputter-deposited AlN template (2023)
  • Author(s): Hideto Miyake, Kenjiro Uesugi, Takao Nakamura
  • Organizer: Photonics West 2024
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Crack-free growth of UVC LEDs on 6-inch sapphire substrates using face-to-face high-temperature annealed AlN by production scale MOCVD (2023)
  • Author(s): Junya Yoshinaga, Keitaro Ikejiri, Shuichi Koseki, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Organizer: Photonics West 2024
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Epitaxial Growth for AlGaN-Based Deep-Ultraviolet Light-Emitting Diodes on 6-inch Sputter-Annealed AlN Template by Using a Mass Production MOCVD System (2023)
  • Author(s): Junya Yoshinaga, Keitaro Ikejiri, Hiroki Tokunaga, Shuichi Koseki, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Organizer: 15th International Symposium on Advanced Plasma Science (ISPlasma2023)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Preparation and Interface Evaluation of 4-Layer Polarity-Inverted AlN Thin Film by Sputtering and Annealing (2023)
  • Author(s): Tomohiro Tamano, Kanako Shojiki, Toru Akiyama, Hiroto Honda, Eiki Sato, Kenjiro Uesugi, Masahiro Uemukai, Tomoyuki Tanikawa, Ryuji Katayama, Hideto Miyake
  • Organizer: International Workshop on Magnetron Sputter Epitaxy (IWMSE)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Normally-off Operation of High-Al-Composition AlGaN Channel HEMTs with Gate Recess Structures (2023)
  • Author(s): Itsuki Nakaoka, Makoto Urushiyama, Etsushi Kubota, Kenjiro Uesugi, Takao Nakamura, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Fabrication of Multiple Polarity Inverted AlN Structures by Multiple Sputtering and High-Temperature Annealing (2023)
  • Author(s): Tomohiro Tamano, Kanako Shojiki, Hiroto Honda, Eiki Sato, Kenjiro Uesugi, Shiyu Xiao, Masahiro Uemukai, Tomoyuki Tanikawa, Ryuji Katayama, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Substrate Off-cut Angle Dependence of Crystallinity and Crystal Orientation of aplane AlN Fabricated by Sputtering and High-Temperature Annealing (2023)
  • Author(s): Yuki Ogawa, Jiei Hayama, Kenjiro Uesugi, Toru Akiyama, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] GaN/AlN Quantum Wells on Step-Edge Density-Controlled AlN Surface (2023)
  • Author(s): Kanako Shojiki, Yuto Yamanaka, Ryota Ishii, Kenjiro Uesugi, Mitsuru Funato, Yoichi Kawakami, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Controlling Polarity of Bilayer Polarity Inverted AlN Fabricated by Single High-Temperature Annealing of Sputtered AlN (2023)
  • Author(s): Kanako Shojiki, Takumi Hashimoto, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Effect on QWs Qualities of Thickness of Homoepitaxial AlN on AlN/sapphire Prepared by Sputtering and High-temperature Annealing (2023)
  • Author(s): Ryota Akaike, Kenjiro Uesugi, Kohei Shima, Shigefusa F. Chichibu, Akira Uedono, Hideto Miyake
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Temperature dependence of efficiency curves in AlGaN-based MQWs with emission wavelengths from 220 to 260 nm (2023)
  • Author(s): Hideaki Murotani, Kosuke Inai, Kunio Himeno, Kaichi Tani, Hiromasa Hayashi, Satoshi Kurai, Narihito Okada, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake, Yoichi Yamada
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Localized deep-ultraviolet luminescence of AlGaN grown on high-temperature annealed AlN templates (2023)
  • Author(s): Shuhei Ichikawa, Kenjiro Uesugi, Kazuki Saito, Shiyu Xiao, Kanako Shojiki, Takao Nakamura, Hideto Miyake, Kazunobu Kojima
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Polarity determination of multilayer polarity-inverted AlN using focused-ion-beam oblique etching and KOH immersion (2023)
  • Author(s): Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake, Akira Sakai
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Epitaxial growth of AlGaN-based deep-ultraviolet light-emitting diodes on a 6-inch sputter-annealed AlN template by using MOCVD system for mass production (2023)
  • Author(s): Junya Yoshinaga, Keitaro Ikejiri, Hiroki Tokunaga, Shuichi Koseki, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Organizer: 6th International Workshop on UV Materials and Devices (IWUMD2023)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Relationship between Internal Quantum Efficiency and Point Defects in AlGaN Quantum Wells on Low-Dislocation Sputtered AlN Templates (2023)
  • Author(s): Megumi Fujii, Yuta Onishi, Kosuke Inai, Ryota Oshimura, Satoshi Kurai, Narihito Okada, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake, Yoichi Yamada
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Well-Number-Dependence of Internal Quantum Efficiency in AlGaN Quantum Wells on Low-Dislocation Sputtered AlN Templates (2023)
  • Author(s): Kosuke Inai, Ryota Oshimura, Kunio Himeno, Megumi Fujii, Yuta Onishi, Satoshi Kurai, Narihito Okada, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake, Yoichi Yamada
  • Organizer: 14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-14)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] 障壁層Al組成低減による遠紫外LEDの発光効率向上 (2023)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 市川修平, 中村孝夫, 土谷正彦, 小島一信, 三宅秀人
  • Organizer: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] MOVPE法を用いたBN成長におけるAlNテンプレート極性の影響 (2023)
  • Author(s): 大石悠翔, 肖世玉, 上杉謙次郎, 秋山亨, 三宅秀人
  • Organizer: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] ゲートリセス領域を有する高Al組成AlGaNチャネルHEMTのノーマリーオフ動作 (2023)
  • Author(s): 中岡樹, 漆山真, 久保田悦司, 上杉謙次郎, 中村孝夫, 三宅秀人
  • Organizer: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] 低転位AlNテンプレートを用いたAlGaN量子井戸構造における内部量子効率の量子井戸数依存性 (2023)
  • Author(s): 稲井滉介, 押村遼太, 姫野邦夫, 藤井恵, 大西悠太, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] UV-C発光帯AlGaN多重量子井戸構造におけるCL強度ラインプロファイルの電流依存性 (2023)
  • Author(s): 大西悠太, 山口竜平, 武居俊宏, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] 220~260 nm発光帯AlGaN量子井戸構造における効率曲線の温度依存性 (2023)
  • Author(s): 稲井滉介, 姫野邦夫, 谷海智, 林拓誠, 室谷英彰, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] スパッタ・アニール法AlN上波長230 nm帯UV-LEDの通電による出力特性変化 (2023)
  • Author(s): 久保田悦司, 田中祥三郎, 上杉謙次郎, 中村孝夫, 三宅秀人
  • Organizer: 第15回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタ・アニール法AlN上にMBE成長させたGaNチャネルHEMTの作製 (2023)
  • Author(s): 漆山真, 中岡樹, 上杉謙次郎, 中村孝夫, 荒木努, 三宅秀人
  • Organizer: 第15回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] ナノパターン上のステップフリーAlN表面へのGaN/AlN量子井戸のMOVPE成長 (2023)
  • Author(s): 吉田莉久, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第15回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタ・アニール法AlNを用いたAlN厚膜成長のための表面制御 (2023)
  • Author(s): 瀧翼佐, 肖世玉, 上杉謙次郎, 中村孝夫, 三宅秀人
  • Organizer: 第15回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタ・アニール法AlN膜作製における4H-SiC(0001)基板微傾斜角の影響 (2023)
  • Author(s): 別所怜, 肖世玉, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第15回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタ・アニール法a面AlN上へのMOVPE法ホモエピタキシャル成長 (2023)
  • Author(s): 羽山慈永, 小川優輝, 上杉謙次郎, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第15回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] 高温熱処理したAlN/Sapphireテンプレートを用いた265 nm帯UV-C LEDの開発 (2023)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 肖世玉, 中村孝夫, 久保雅敬, 三宅秀人
  • Organizer: 日本学術振興会R032産業イノベーションのための結晶成Dの最前線」
  • Invited
• [Presentation] スパッタアニールAlNの極性制御を用いた積層方向極性反転構造の作製 (2023)
  • Author(s): 正直花奈子, 本田啓人, 橋本卓実, 並河楽空, 上杉謙次郎, 肖世玉, 谷川智之, 片山竜二, 三宅秀人
  • Organizer: 日本学術振興会R032産業イノベーションのための結晶成長委員会第10回研究会「AlNおよびAlGaNの結晶成長と深紫外LEDの最前線」
  • Invited
• [Presentation] スパッタアニールAlNを用いた波長230 nm帯UV-LEDの開発 (2023)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 市川修平, 肖世玉, 正直花奈子, 中村孝夫, 土谷正彦, 小島一信, 三宅秀人
  • Organizer: 第70回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] スパッタアニールAlNテンプレート上AlGaN薄膜の局在発光特性の評価 (2023)
  • Author(s): 市川修平, 上杉謙次郎, 齊藤一輝, 肖世玉, 正直花奈子, 中村孝夫, 毎田修, 三宅秀人, 小島一信
  • Organizer: 第70回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] 230 nm発光AlGaN量子井戸構造における偏光特性の温度依存性 (2023)
  • Author(s): 姫野邦夫, 稲井滉介, 谷海智, 林拓誠, 室谷英彰, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第70回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] マルチ・スパッタアニール法による多層極性反転AlN構造の作製 (2023)
  • Author(s): 玉野智大, 正直花奈子, 本田啓人, 上杉謙次郎, 肖世玉, 上向井正裕, 谷川智之, 片山竜二, 三宅秀人
  • Organizer: 第70回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] ピラー形成AlNテンプレート上へのHVPE法によるAlN厚膜成長 (2023)
  • Author(s): 肖世玉, 岩山章, 上杉謙次郎, 正直花奈子, 岩谷素顕, 三宅秀人
  • Organizer: 第70回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] High-Power UV-C LED on Face-to-Face Annealed Sputter-Deposited AlN (2022)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Takao Nakamura, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Masataka Kubo, Hideto Miyake
  • Organizer: The 10th International Conference on Light-Emitting Devices and Their Industrial Applications (LEDIA2022)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Fabrication of Face-to-Face Annealed Sputter-Deposited AlN for High EQE 265 nm LEDs (2022)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Takao Nakamura, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Masataka Kubo, Hideto Miyake
  • Organizer: 5th International Workshop on UV Materials and Devices (IWUMD2022)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] UV-C LEDs Fabricated on Face-to-Face Annealed Sputter-Deposited AlN Templates (2022)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Takao Nakamura, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Masataka Kubo, Hideto Miyake
  • Organizer: European Materials Research Society (E-MRS) 2022 Fall Meeting
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Sputtering Epitaxy of AlN on Sapphire and High-Temperature Thermal Treatment (2022)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Hideto Miyake
  • Organizer: International Workshop on Magnetron Sputter Epitaxy (IWMSE)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Fabrication of High-Quality Templates by Face-to-Face Annealing of Sputtered AlN for Deep UV LEDs (2022)
  • Author(s): Hideto Miyake, Kenjiro Uesugi, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Shigeyuki Kuboya
  • Organizer: Materials Research Society (MRS) 2022 Spring Meeting
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Fabrication of high-quality AlN templates by Face-to-face annealing of sputter-deposited films (2022)
  • Author(s): Hideto Miyake, Kenjiro Uesugi, Shiyu Xiao, Kanako Shojiki, Takao Nakamura
  • Organizer: International Workshop on Nitride Semiconductors 2022 (IWN2022)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Polarity Control of Sputter-Deposited AlN with High-Temperature Face-to-Face Annealing (2022)
  • Author(s): Kanako Shojiki, Kenjiro Uesugi, Shiyu Xiao, Hideto Miyake
  • Organizer: 9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-IX)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Face-to-Face Annealed AlN Templates with Low Screw- and Mixed-Type Dislocation Densities (2022)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Kenji Norimatsu, Hideto Miyake
  • Organizer: International Workshop on Nitride Semiconductors 2022 (IWN2022)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] Polarity Control of Face-to-Face Annealed Sputtered AlN (2022)
  • Author(s): Kanako Shojiki, Kenjiro Uesugi, Shiyu Xiao, Hideto Miyake
  • Organizer: The 22nd International Vacuum Congress (ICV-22)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] MOVPE Homoepitaxial Growth on N-polar Annealed Sputter-Deposited AlN Films (2022)
  • Author(s): Gaku Namikawa, Kanako Shojiki, Riku Yoshida, Kenjiro Uesugi, Hideto Miyake
  • Organizer: The 22nd International Vacuum Congress (ICV-22)
  • Int'l Joint Research
• [Presentation] 高温アニールしたスパッタ成膜AlNテンプレートを用いたUV-C LEDの開発 (2022)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 肖世玉, 中村孝夫, 久保雅敬, 三宅秀人
  • Organizer: 令和3年電気学会各賞受賞記念講演
  • Invited
• [Presentation] 窒化物半導体結晶成長技術を駆使した量子光源の開発 (2022)
  • Author(s): 正直花奈子, 本田啓人, 上杉謙次郎, 肖世玉, 谷川智之, 片山竜二, 三宅秀人
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
  • Invited
• [Presentation] HfO2/AlN横型疑似位相整合チャネル導波路を用いた230 nm遠紫外第二次高調波発生 (2022)
  • Author(s): 本田啓人, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 芹田和則, 村上博成, 斗内政吉, 上向井正裕, 谷川智之, 片山竜二
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
  • Invited
• [Presentation] m面サファイア基板上スパッタアニールAlNの面方位制御 (2022)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 張芸賢, 正直花奈子, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] 高温アニール処理されたスパッタ成膜AlNテンプレート上AlGaN量子井戸構造における内部量子効率の量子井戸数依存性 (2022)
  • Author(s): 稲井滉介, 押村遼太, 姫野邦夫, 藤井恵, 大西悠太, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 2022年度応用物理・物理系学会中国四国支部支部合同学術講演会
• [Presentation] 低転位AlNテンプレート上に成長したAlGaN量子井戸構造における貫通転位近傍の発光強度プロファイル (2022)
  • Author(s): 大西悠太, 藤井恵, 押村遼太, 稲井滉介, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 2022年度応用物理・物理系学会中国四国支部支部合同学術講演会
• [Presentation] サファイア上へのMOVPE法によるBN成長と高温アニール (2022)
  • Author(s): 井谷彩花, 窪谷茂幸, 肖世玉, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] スパッタアニール法作製a面AlNにおける結晶性のスパッタ温度依存性 (2022)
  • Author(s): 小川優輝, 渋谷康太, 上杉謙次郎, 肖世玉, 正直花奈子, 三宅秀人
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] スパッタAlNテンプレート上AlGaN量子井戸構造における貫通転位近傍のCL強度ラインプロファイル (2022)
  • Author(s): 藤井恵, 大西悠太, 稲井滉介, 押村遼太, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] 2層極性反転AlN横型擬似位相整合チャネル導波路を用いた230 nm遠紫外第二次高調波発生 (2022)
  • Author(s): 本田啓人, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 芹田和則, 村上博成, 斗内政吉, 上向井正裕, 谷川智之, 片山竜二
  • Organizer: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] ゲート絶縁膜を有するAlGaNチャネルHEMTの作製と評価 (2022)
  • Author(s): 中岡樹, 上杉謙次郎, 漆山真, 正直花奈子, 三宅秀人
  • Organizer: 第14回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタアニール法作製a面AlNのc軸方向配向性の基板微傾斜角度依存性 (2022)
  • Author(s): 小川優輝, 渋谷康太, 上杉謙次郎, 肖世玉, 正直花奈子, 秋山亨, 三宅秀人
  • Organizer: 第14回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] 低転位密度N極性AlNテンプレート上MOVPEホモエピタキシャル成長のサファイア基板オフ角度依存性 (2022)
  • Author(s): 並河楽空, 正直花奈子, 吉田莉久, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第14回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] ステップ端密度が制御されたAlN表面へのGaN/AlN量子井戸のMOVPE成長 (2022)
  • Author(s): 山中祐人, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第14回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタAlNテンプレート上AlGaN量子井戸構造の内部量子効率に対する点欠陥の影響 (2022)
  • Author(s): 藤井恵, 大西悠太, 稲井滉介, 押村遼太, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第14回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] 低転位スパッタAlNテンプレート上AlGaN量子井戸構造における内部量子効率の量子井戸数依存性 (2022)
  • Author(s): 稲井滉介, 押村遼太, 姫野邦夫, 藤井恵, 大西悠太, 倉井聡, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第14回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] 低転位密度AlNテンプレート上へのAlGaN成長と265nm発光LEDへの応用 (2022)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 正直花奈子, 肖世玉, 窪谷茂幸, 中村孝夫, 三宅秀人
  • Organizer: 2022年日本結晶成長学会特別講演会「赤﨑勇先生追悼公演会 ～結晶成長が描く夢の継承～」
  • Invited
• [Presentation] らせん・混合転位密度が低いAlNテンプレートを用いたDUV-LEDの開発 (2022)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 中村孝夫, 正直花奈子, 肖世玉, 久保雅敬, 三宅秀人
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] スパッタアニールAlN上GaN/AlN 2次元正孔ガス構造の電気特性評価と微細構造解析 (2022)
  • Author(s): 西村海音, 中西悠太, 林侑介, 藤平哲也, Chaudhuri Reet, Cho Yongjin, Xing Huili Grace, Jena Debdeep, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 酒井朗
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] オフ角が異なるサファイア上AlNテンプレートを用いたAlGaN量子井戸のカソードルミネッセンス評価 (2022)
  • Author(s): 倉井聡, 藤井恵, 大西悠太, 中谷文哉, 岡田成仁, 上杉謙次郎, 三宅秀人, 山田陽一
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] 多層極性反転AlNの傾斜面KOHエッチングによる極性判定 (2022)
  • Author(s): 林侑介, 中西悠太, 藤平哲也, 上杉謙次郎, 正直花奈子, 三宅秀人, 酒井朗
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] スパッタアニール法で作製したAlN極性反転構造における酸素プラズマ照射効果 (2022)
  • Author(s): 林侑介, Li Jiaying, 中西悠太, 藤平哲也, 上杉謙次郎, 正直花奈子, 三宅秀人, 五十嵐信行, 酒井朗
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] MOVPE成長温度とメサの大きさがステップフリーAlN膜の表面形態に与える影響 (2022)
  • Author(s): 山中祐人, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] 金属Alターゲットを用いてスパッタ堆積したアニールAlNの極性制御 (2022)
  • Author(s): 橋本卓実, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 肖世玉, 窪谷茂幸, 三宅秀人
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] スパッタ堆積アニールN極性AlN膜へのサファイア基板オフ角の影響 (2022)
  • Author(s): 並河楽空, 窪谷茂幸, 正直花奈子, 森隆一, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [Presentation] High-power operation of DUV-LED grown on high-temperature annealed AlN templates (2021)
  • Author(s): Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Takao Nakamura, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Masataka Kubo, Hideto Miyake
  • Organizer: The 3rd International Workshop on Materials Science and Advanced Electronics Created by Singularity (IWSingularity 2022)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] Polarity control and threading-dislocation-density reduction of face-to-face annealed sputtered AlN on sapphire (2021)
  • Author(s): Knako Shojiki, Takumi Hashimoto, Gaku Namikawa, Soshi Umeda, Hiroto Honda, Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Masahiro Uemukai, Tomoyuki Tanikawa, Ryuji Katayama, Hideto Miyake
  • Organizer: The 3rd International Workshop on Materials Science and Advanced Electronics Created by Singularity (IWSingularity 2022)
  • Int'l Joint Research / Invited
• [Presentation] 高温アニールAlNテンプレートを用いたUV-C LEDの開発 (2021)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 中村孝夫, 久保雅敬, 三宅秀人
  • Organizer: ワイドギャップ半導体学会第4回研究会
  • Invited
• [Presentation] 低転位密度AlNテンプレート上でのAlGaN成長におけるステップ制御 (2021)
  • Author(s): 三宅秀人, 上杉謙次郎, 正直花奈子, 肖世玉, 窪谷茂幸
  • Organizer: 第50回日本結晶成長国内会議
  • Invited
• [Presentation] スパッタ成膜アニール処理AlNにおける極性制御技術とN極性膜の低転位密度化 (2021)
  • Author(s): 正直花奈子, 橋本卓実, 梅田颯志, 本田啓人, 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 上向井正裕, 谷川智之, 片山竜二, 三宅秀人
  • Organizer: 第13回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
  • Invited
• [Presentation] 高温アニールしたスパッタ成膜AlNテンプレートを用いたUV-C LEDの開発 (2021)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 電気学会 光・量子デバイス研究会「パワー光源システム技術」
• [Presentation] 高温アニールしたAlN上におけるDUV-LEDの高効率化 (2021)
  • Author(s): 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 中村孝夫, 正直花奈子, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] 高温熱処理したスパッタAlN膜のクラック発生条件 (2021)
  • Author(s): 林侑介 上杉謙次郎, 正直花奈子, 三宅秀人, 藤平哲也, 酒井朗
  • Organizer: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] スパッタアニール法を用いたa面AlNの基板オフ角依存性 (2021)
  • Author(s): 渋谷康太, 上杉謙次郎, 肖世玉, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 秋山亨, 三宅秀人
  • Organizer: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] ストライプ状溝加工AlNテンプレート上へのHVPE法によるAlN成長 (2021)
  • Author(s): 岡駿斗, 奥灘瑠斗, 肖世玉, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 中村孝夫, 三宅秀人
  • Organizer: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] スパッタアニールAlNテンプレート上UV-C AlGaN量子井戸成長 (2021)
  • Author(s): 石原頌也, 窪谷茂幸, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] 高温アニールAlN上AlGaNチャネルHEMTのAlGaN膜厚依存性 (2021)
  • Author(s): 森隆一, 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 正直花奈子, 三宅秀人
  • Organizer: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [Presentation] r面サファイア基板上への高温アニールa面AlN膜作製における基板オフ角依存性 (2021)
  • Author(s): 渋谷康太, 上杉謙次郎, 肖世玉, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 秋山亨, 三宅秀人
  • Organizer: 電子情報通信学会 エレクトロニクスソサイエティ レーザ・量子エレクトロニクス研究会(LQE)
• [Presentation] 高温アニールAlNテンプレートを用いた220 nm帯発光AlGaN量子井戸の成長 (2021)
  • Author(s): 石原頌也, 窪谷茂幸, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 電子情報通信学会 エレクトロニクスソサイエティ レーザ・量子エレクトロニクス研究会(LQE)
• [Presentation] AlNテンプレート上へのAlGaNチャネルHEMT作製と電気的特性評価 (2021)
  • Author(s): 森隆一, 上杉謙次郎, 窪谷茂幸, 正直花奈子, 三宅秀人
  • Organizer: 電気情報通信学会 エレクトロニクスソサエティ 電子デバイス研究会(ED)
• [Presentation] 高Al組成n型AlGaNへの選択再成長n型GaNを用いたオーミックコンタクト形成 (2021)
  • Author(s): 池内陸也, 上杉謙次郎, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 三宅秀人
  • Organizer: 第13回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] AlN膜の選択制成長におけるMOVPE成長条件が表面形態に与える影響 (2021)
  • Author(s): 山中祐人, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 上杉謙次郎, 三宅秀人
  • Organizer: 第13回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] スパッタ積層と高温アニールで作製したAlN膜における極性制御 (2021)
  • Author(s): 橋本卓実, 正直花奈子, 上杉謙次郎, 肖世玉, 窪谷茂幸, 三宅秀人
  • Organizer: 第13回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Presentation] フラット・トップ型ナノパターンサファイア基板を用いたAlNのMOVPE成長 (2021)
  • Author(s): 和泉志男, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 上杉謙次郎, 肖世玉, 三宅秀人
  • Organizer: 第13回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
• [Patent(Industrial Property Rights)] ＩＩＩ族窒化物発光デバイス、ＩＩＩ族窒化物エピタキシャルウエハ、ＩＩＩ族窒化物発光デバイスを作製する方法 (2021)
  • Inventor(s): 上杉謙次郎, 三宅秀人, 中村孝夫
  • Industrial Property Rights Holder: 上杉謙次郎, 三宅秀人, 中村孝夫
  • Industrial Property Rights Type: 特許
  • Industrial Property Number: 2021-147191
  • Filing Date: 2021
• [Patent(Industrial Property Rights)] 半導体発光デバイス、半導体発光デバイスを作製する方法、コンタクト構造 (2021)
  • Inventor(s): 上杉謙次郎, 三宅秀人, 中村孝夫
  • Industrial Property Rights Holder: 上杉謙次郎, 三宅秀人, 中村孝夫
  • Industrial Property Rights Type: 特許
  • Industrial Property Number: 2021-147192
  • Filing Date: 2021
• [Patent(Industrial Property Rights)] 光学装置及び光学装置の製造方法 (2021)
  • Inventor(s): 三宅秀人, 上杉謙次郎, 久保雅敬, 窪谷茂幸
  • Industrial Property Rights Holder: 三宅秀人, 上杉謙次郎, 久保雅敬, 窪谷茂幸
  • Industrial Property Rights Type: 特許
  • Industrial Property Number: 2021-196741
  • Filing Date: 2021