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Construction of non-thermal ultra-fine processing using double-pulse UV lasers

Research Project

Project/Area Number 22K04766
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Allocation TypeMulti-year Fund
Section一般
Review Section Basic Section 26050:Material processing and microstructure control-related
Research InstitutionOsaka Sangyo University

Principal Investigator

草場 光博  大阪産業大学, 工学部, 教授 (70268283)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 坂上 仁志  核融合科学研究所, 研究部, 教授 (30254452)
橋田 昌樹  東海大学, 総合科学技術研究所, 特任教授 (50291034)
Project Period (FY) 2022-04-01 – 2025-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2023)
Budget Amount *help
¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000)
Fiscal Year 2024: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000)
Fiscal Year 2023: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
Fiscal Year 2022: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
Keywordsナノ秒紫外レーザー / 非熱的加工 / ナノ周期構造 / ナノドット構造 / ダブルパルス
Outline of Research at the Start

超スマート社会の実現に向け高性能かつ精密な電子デバイス開発が行われており、同時にレーザー加工技術もより精密な超微細加工が要求されている。半導体材料への加工は、機械的衝撃や熱による物理化学的性質を損なわず、容易に微小領域の加工ができる方法が必要不可欠である。そこで今までに解明してきたナノ秒紫外レーザーによる半導体材料表面への非熱的微細構造形成の結果を基に、超解像顕微鏡で利用されているコヒーレント相互作用技術を利用し、2台のナノ秒紫外レーザー(エキシマレーザー)を組み合わせた超微細加工システムを構築し、従来のレーザー加工では達成できていない回折限界を超えた10nm程度の超微細加工を目指す。

Outline of Annual Research Achievements

超スマート社会の実現に向け高性能かつ精密な電子デバイス開発が行われており、同時にレーザー加工技術もより精密な超微細加工が要求されている。半導体材料への加工は、機械的衝撃や熱による物理化学的性質を損なわず、容易に微小領域の加工ができる方法が必要不可欠である。そこで今までに解明してきたナノ秒紫外レーザーによる半導体材料表面への非熱的微細構造形成の結果を基に、超解像顕微鏡で利用されているコヒーレント相互作用技術を利用し、2台のナノ秒紫外レーザー(エキシマレーザー)を組み合わせた超微細加工システムを構築し、従来のレーザー加工では達成できていない回折限界を超えた10nm程度の超微細加工を目指す。
令和5年度は、単結晶Si太陽電池表面にXeClエキシマレーザー(発振波長308nm)を融解閾値近傍(0.5J/cm^2)以下のレーザーフルエンスで照射したところ、Si太陽電池表面のレーザーの偏光方向に対してP偏光で入射する面(P偏光面)にはナノ周期構造が、S偏光で入射する面(S偏光素面)にはナノドット構造が形成されていることが分かった。入射角が変わると入射光の偏光方向によって反射率が変化することから、融解閾値はレーザー入射角に依存する。S偏光面よりもP偏光面の方が融解閾値が低くなることから、ナノドット構造が形成するレーザーフルエンスは融解閾値よりもかなり低いと考えられる。令和4年度に構築したKrFエキシマレーザー(発振波長248nm)加工システムを用い、同様の実験を行ったところ、融解閾値以下のレーザーフルエンスでS偏光面のみにナノドット構造の形成が見られた。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

XeClとKrFエキシマレーザーを用いたそれぞれの加工システムを構築し、それぞれの成果が出てきている。当初予期していなかった融解閾値以下のレーザー照射でナノドット構造が形成されることを発見したことは、従来のレーザー誘起微細構造形成のメカニズムでは考えられないことであり、大きな進展と考えている。しかしながらエキシマレーザーガスの高騰により、実験の推進に影響が出てきており、レーザーガスを使用しない別の紫外レーザー(例えばNd:YAGレーザー)の使用を考える必要がある。

Strategy for Future Research Activity

本研究では、エキシマレーザーを用いた非熱的超微細加工システムの設計を行うための実験を進めていく過程で、融解閾値以下のレーザーフルエンスで照射することでナノドット構造が形成されることを発見した。形成されたナノドットのサイズは予備的結果であるがレーザーの回折限界以下のサイズ(100nm以下)であった。ナノドット構造のサイズ分布、結晶性および形成メカニズムについては今後調べていく計画である。当初計画していた波長の異なる2台の紫外レーザー(エキシマレーザー)を組み合わせたダブルパルス紫外レーザー加工システムの構築については、エキシマレーザーの発振波長に比較的近いNd:YAGレーザーの4倍波(266nm)を利用した加工システムに変更して進める予定である。
1)非熱的加工メカニズムの解明:ナノ微細構造形成のためのメカニズムを調べるために電磁粒子シミュレーションを行い、実験による結果との比較・検討を行うことで、より詳細なアブレーション過程の解明を行い、非熱的レーザー加工の物理モデルを構築する。
2)ダブルパルス紫外レーザーを用いた超微細加工用光学系の設計・製作:Nd:YAGレーザーの4倍波を使用したダブルパルス紫外レーザーによる超微細加工システムを構築する。
3)ダブルパルス紫外レーザーを用いた加工システムの性能評価:製作したシステムの性能評価として2台のレーザーのレーザーフルエンス、遅延時間、空間オーバーラップなどをパラメータにした加工実験を行う。

Report

(2 results)
  • 2023 Research-status Report
  • 2022 Research-status Report
  • Research Products

    (11 results)

All 2024 2023 2022 Other

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (7 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 1 results) Remarks (2 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Dependence of Ablation Thresholds for Silicon on Laser Incident Angle2023

    • Author(s)
      Kusaba Mitsuhiro、Nigo Fumitaka、Hashida Masaki
    • Journal Title

      IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials

      Volume: 143 Issue: 10 Pages: 314-319

    • DOI

      10.1541/ieejfms.143.314

    • ISSN
      0385-4205, 1347-5533
    • Year and Date
      2023-10-01
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Peer Reviewed
  • [Presentation] ナノ秒紫外レーザー照射によるSi太陽電池表面上のナノ微細構造形成2024

    • Author(s)
      草場光博、平井健太、田中朋世、堤大輔、橋田昌樹、坂上仁志
    • Organizer
      レーザー学会学術講演会第44回年次大会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] ナノ秒紫外レーザーにより形成されたナノドット構造を有するシリコン太陽電池のラマン分光2024

    • Author(s)
      草場光博、平井健太、田中朋世、堤大輔、橋田昌樹、坂上仁志
    • Organizer
      2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] 紫外レーザ照射によるSi太陽電池表面の高密度ナノドット構造形成2023

    • Author(s)
      平井健太、田中朋世、橋田昌樹、坂上仁志、草場光博
    • Organizer
      電気学会光応用・視覚研究会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] Uniform LIPSS on Si Solar Cells Induced with Polarized XeCl Excimer Laser Pulses2023

    • Author(s)
      Mitsuhiro Kusaba, Masaki Hashida
    • Organizer
      The 12th Asia-Pacific Laser Symposium
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] シリコン太陽電池に付与されたレーザ誘起ナノドット構造のレーザ波長依存性2023

    • Author(s)
      平井健太、田中朋世、堤大輔、橋田昌樹、坂上仁志、草場光博
    • Organizer
      電気学会光応用・視覚研究会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] パルスレーザによるシリコン太陽電池表面の反射率低減2022

    • Author(s)
      草場光博、橋田昌樹
    • Organizer
      第97回レーザ加工学会講演会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
    • Invited
  • [Presentation] フェムト秒レーザ照射したAlの接触角と表面形状との関係2022

    • Author(s)
      森祐輔、草場光博、橋田昌樹
    • Organizer
      電気学会光応用・視覚研究会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
  • [Remarks] 大阪産業大学研究者データベース

    • URL

      https://kenkyu-s.osaka-sandai.ac.jp/

    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Remarks] 光情報科学研究室

    • URL

      https://www.kusaba-lab.jp/

    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 表面処理方法2023

    • Inventor(s)
      草場光博
    • Industrial Property Rights Holder
      草場光博
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2023-217247
    • Filing Date
      2023
    • Related Report
      2023 Research-status Report

URL: 

Published: 2022-04-19   Modified: 2024-12-25  

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