放射光を用いたヒト毛髪中ヒ素の化学形態別マッピング分析法の開発とその法科学応用

Research Project

Project/Area Number	22K05164
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 34020:Analytical chemistry-related
Research Institution	Institute of Physical and Chemical Research
Principal Investigator	岩井貴弘国立研究開発法人理化学研究所, 放射光科学研究センター, 研究員 (90756694)
Project Period (FY)	2022-04-01 – 2025-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2022)
Budget Amount *help	¥4,030,000 (Direct Cost: ¥3,100,000、Indirect Cost: ¥930,000) Fiscal Year 2024: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000) Fiscal Year 2023: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000) Fiscal Year 2022: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
Keywords	法科学 / 毛髪 / 放射光 / ヒ素
Outline of Research at the Start	世界最高性能の大型放射光施設であるSPring-8におけるX線吸収微細構造(XAFS)分析を活用して、毛髪中のヒ素を試料非破壊かつ化学的な前処理なしで化学形態別にマッピングを行う技術の開発を行う。そして、高速液体クロマトグラフィー-誘導結合プラズマ質量分析法(HPLC-ICP-MS)による分析と合わせて、ヒ素がヒト毛髪中のサブマイクロメートルオーダーの領域にどのような化学形態で、どのように空間的に分布するのかを世界で初めて明らかにし、毛髪中における外因性・内因性ヒ素を判別するための手法を確立する。