Project/Area Number |
23H01849
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Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Section | 一般 |
Review Section |
Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
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Research Institution | Nagoya University |
Principal Investigator |
宮町 俊生 名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 准教授 (10437361)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
小澤 孝拓 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (20910144)
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Project Period (FY) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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Project Status |
Granted (Fiscal Year 2023)
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Budget Amount *help |
¥19,240,000 (Direct Cost: ¥14,800,000、Indirect Cost: ¥4,440,000)
Fiscal Year 2023: ¥11,440,000 (Direct Cost: ¥8,800,000、Indirect Cost: ¥2,640,000)
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Keywords | 界面磁気結合 / 水素吸蔵特性 / 走査トンネル顕微鏡 |
Outline of Research at the Start |
本研究では強磁性薄膜(FM)にPd薄膜を積層してPd/FM薄膜ヘテロ構造を作製し、磁気近接効果を利用してPdに磁化を誘起させ、Pd薄膜のd軌道の電子密度分布に現れる変調を原子スケールかつスピン・軌道分解して調べ、水素吸蔵特性を向上させる基本原理をミクロに解明することを目的とする。本研究の目的である「磁性による新規水素吸蔵機能の創出」を達成するため、STMによるミクロ構造・物性評価を軸に、水素吸蔵特性評価、理論による研究チームを構成し、密に連携して将来的なデバイス応用に繋げるための基盤研究を行う。
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