Project/Area Number |
23H01858
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Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Section | 一般 |
Review Section |
Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
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Research Institution | Japan Fine Ceramics Center |
Principal Investigator |
穴田 智史 一般財団法人ファインセラミックスセンター, その他部局等, 上級研究員 (40772380)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
野村 優貴 一般財団法人ファインセラミックスセンター, その他部局等, 上級研究員 (60970126)
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Project Period (FY) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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Project Status |
Granted (Fiscal Year 2023)
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Budget Amount *help |
¥14,950,000 (Direct Cost: ¥11,500,000、Indirect Cost: ¥3,450,000)
Fiscal Year 2023: ¥10,140,000 (Direct Cost: ¥7,800,000、Indirect Cost: ¥2,340,000)
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Keywords | 電子線ホログラフィー / オペランド解析 / 機械学習 |
Outline of Research at the Start |
オペランド電子線ホログラフィーは,動作時デバイス内の電荷挙動を高空間分解能で観察できる強力な手法である.しかし,時間分解能が低いことが問題となっている.そこで,本研究では,①高速オペランド電子線ホログラフィー技術の開発と②電池・半導体デバイスの電荷挙動解析への応用を目的とする.時間分解能を向上するため,静電偏向サブフレーミングと機械学習に基づく画像処理を融合した解析システムを構築する.
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