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放電手法制御によるプラズマプロセス精密制御機構の解明とその応用

Research Project

Project/Area Number 23K03368
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Allocation TypeMulti-year Fund
Section一般
Review Section Basic Section 14030:Applied plasma science-related
Research InstitutionKyushu University

Principal Investigator

鎌滝 晋礼  九州大学, システム情報科学研究院, 准教授 (60582658)

Project Period (FY) 2023-04-01 – 2026-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help
¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000)
Fiscal Year 2025: ¥520,000 (Direct Cost: ¥400,000、Indirect Cost: ¥120,000)
Fiscal Year 2024: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000)
Fiscal Year 2023: ¥3,510,000 (Direct Cost: ¥2,700,000、Indirect Cost: ¥810,000)
Keywords任意波形電圧放電 / プラズマCVD / プラズマ制御 / プラズマプロセス / 放電手法制御
Outline of Research at the Start

現在、プラズマプロセスは大規模集積回路製造前工程の70%以上に使用されており、現代社会を支える基幹科学技術として発展している。プロセスプラズマ中のイオン・ラジカルの密度と運動エネルギーを制御することで、集積回路の微細化及び3次元高層化が達成されている。今後は、エッチングや薄膜堆積の精度がnmに突入し、原子レベルでのプロセス制御が強く求められる段階になっている。この要求に応えるには、反応に寄与するイオン・ラジカルを精度よく選択生成する新規放電手法の開発及びその制御機構の解明を行う。

Outline of Annual Research Achievements

現在、プラズマプロセスは大規模集積回路製造前工程の70%以上に使用されており、現代社会を支える基幹科学技術として発展している。プロセスプラズマ中のイオン・ラジカルの密度と運動エネルギーを制御することで、集積回路の微細化及び3次元高層化が達成されている。今後のさらなる微細化及び複雑化した半導体製造において、反応に寄与するイオン・ラジカルを精度よく制御できる放電手法が求められている。
本研究は、任意波形電圧放電手法を用いてプラズマ内部パラメータであるイオン角度分布関数、イオンエネルギー分布関数、電子エネルギー分布関数などを制御できることを示し、その適用可能範囲を定量的に明らかにし、その機構を解明し、成膜への応用を目的に研究を行っている。2年目は、二周波重畳放電のプラズマパラメータへの効果について検証を進めた。その結果、二周波重畳放電は単一周波数放電に比べ、単位入力電力密度あたりの電子密度が高くなることが明らかとなった。この要因を明らかにするために、電場の時空間構造および電場変動の自己パワースペクトル解析を用い、二周波重畳放電の電場揺動は、非線形結合波を含む、多くの電場変動ピークが観測された。さらに、規格化された電子の電力吸収密度は二周波重畳放電において高く、これは大きな電場変動が特に確率的加熱を通じて電子加熱に大きく寄与することを示した。また、振幅変調放電の変調波形を変えた場合の電子密度、電子温度や電子エネルギー分布関数への影響を実験とシミュレーションによる検証も行なった。矩形波形による振幅変調放電が電子温度の増加に寄与し、それが変調周波数に関係があることを明らかにした。さらに、その機構として電圧波形の急激な変化に対する電子密度と電子温度の変化の時定数が強く関連していることを明らかにした。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

1: Research has progressed more than it was originally planned.

Reason

今年度予定していた検討事項のうち、予定していた項目である振幅変調放電の波形タイプを変えた場合の電子密度、電子温度や電子エネルギー分布関数への影響を実験とシミュレーションによって検証し、矩形波形による振幅変調放電が電子温度の増加に寄与し、それが変調周波数に関係があることを明らかにした。さらに、その機構として電圧波形の急激な変化に対する電子密度と電子温度の変化の時定数が強く関連していることを明らかにした。さらに二周波重畳放電のプラズマパラメータへの効果について検証を進めた。その結果、二周波重畳放電は単一周波数放電に比べ、単位入力電力密度あたりの電子密度が高くなることが明らかとなった。この要因を明らかにするために、電場の時空間構造および電場変動の自己パワースペクトル解析を用い、二周波重畳放電の電場揺動は、非線形結合波を含む、多くの電場変動ピークが観測された。これらの変動は特にシース領域で顕著であり、電子プラズマ周波数までの周波数範囲における電場変動成分は、二周波重畳放電の方が大きかった。さらに、規格化された電子の電力吸収密度は二周波重畳放電において高く、これは大きな電場変動が特に確率的加熱を通じて電子加熱に大きく寄与していることを示した。これらの結果は、電場変動解析が電子加熱機構、特にプラズマ生成において重要な役割を果たすシース領域における加熱メカニズムの解明に有効であることを示した。このように研究目的以上に進展している。

Strategy for Future Research Activity

3年目にあたる2025年度は、任意放電波形放電において、矩形波による振幅変調放電の効果及び成膜への影響についてさらに調査する。さらに、プラズマから基板へのイオン衝撃の影響を、対象の基板の種類、イオンエネルギーやイオン角度を変えた時の影響を調べる。イオンの振る舞いは、ガス圧力に対して大きく変化するため、これらの調査は、実験だけでなく、流体シミュレーションや粒子シミュレーションを活用することで、それらの機構を明らかにする。さらに、より精密なイオンエネルギーや角度の制御のための適切な放電印加手法について検討する。任意放電波形放電だけでなく、バイアス電圧を印加するなど行い、調査する。こちらも実験だけでなくシミュレーションとも組み合わせて行う。

Report

(2 results)
  • 2024 Research-status Report
  • 2023 Research-status Report
  • Research Products

    (20 results)

All 2025 2024 2023 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Open Access: 1 results) Presentation (17 results) (of which Int'l Joint Research: 7 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Effect of higher driving frequencies in dual-frequency discharge on plasma generation in capacitive coupled plasmas: PIC-MCC simulation2025

    • Author(s)
      Otomo Hiroshi、Lai Jian-Syun、Kamataki Kunihiro、Yamamoto Yuma、Shiratani Masaharu
    • Journal Title

      AIP Advances

      Volume: 15 Issue: 3

    • DOI

      10.1063/5.0256430

    • Related Report
      2024 Research-status Report
    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition2023

    • Author(s)
      Kamataki Kunihiro、Sasaki Yusuke、Nagao Iori、Yamashita Daisuke、Okumura Takamasa、Yamashita Naoto、Itagaki Naho、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu
    • Journal Title

      Materials Science in Semiconductor Processing

      Volume: 164 Pages: 107613-107613

    • DOI

      10.1016/j.mssp.2023.107613

    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 矩形振幅変調放電が高周波容量結合型プラズマに与える影響:PIC-MCCシミュレーション2024

    • Author(s)
      山本祐馬,山下航平,鎌滝晋礼,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治
    • Organizer
      2024年度日本表面真空学会九州支部学術講演会
    • Related Report
      2024 Research-status Report
  • [Presentation] SRIMシミュレーションを用いたLiプラズマEUVのMo/Siミラーへのダメージの検討2024

    • Author(s)
      池田築,鎌滝晋礼,山下大輔,奥村賢直,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治
    • Organizer
      2024年度日本表面真空学会九州支部学術講演会
    • Related Report
      2024 Research-status Report
  • [Presentation] Effects of Ion Energy and Ion Flux on a-C:H Film PECVD Deposition Studied using Tailored Voltage Waveform Discharges2024

    • Author(s)
      D. Wakita, H. Otomo, M. Otaka, K. Ikeda, J. Lai, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, D. Nagamatsu, T. Shindo, T. Matsudo
    • Organizer
      19th International Conference on Plasma Surface Engineering
    • Related Report
      2024 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] TEOS/O2/ArプラズマCVD発光分光分析を用いたSiO2薄膜特性の機械学習予測2024

    • Author(s)
      鎌滝晋礼, S. W. Fitriani, 佐藤優志, 山本祐馬, 黒崎陽晴, 山下大輔, 山下尚人, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治
    • Organizer
      第85回応用物理学会秋季学術講演会
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      2024 Research-status Report
  • [Presentation] Effects of Rectangular Amplitude Modulated Discharge in Radio Frequency Capacitively Coupled Plasma:PIC-MCC simulation2024

    • Author(s)
      Yuma YAMAMOTO, Kohei YAMASHITA, Kunihiro KAMATAKI, Naoto YAMASHITA, Naho ITAGAKI, Kazunori KOGA, Masaharu SHIRATANI
    • Organizer
      The 10th International Symposium on Surface Science
    • Related Report
      2024 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Effects of Rectangular Amplitude Modulated Radio Frequency Capacitively Coupled Plasma : PIC-MCC simulation2024

    • Author(s)
      Yuma Yamamoto, Kohei Yamashita, Kunihiro Kamataki, Naoto Yamashita, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani
    • Organizer
      8th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics (AAPPS-DPP2024)
    • Related Report
      2024 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Li光源EUV技術におけるRu保護膜付きMo/Siミラーへのダメージに対するSRIMシミュレーションを用いた検討2024

    • Author(s)
      池田築,鎌滝晋礼,山下大輔,奥村賢直,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治
    • Organizer
      第41回 プラズマ・核融合学会 年会
    • Related Report
      2024 Research-status Report
  • [Presentation] 放電電圧振幅変調Arプラズマにおけるイオン制御の検討:COMSOLシミュレーション2024

    • Author(s)
      黒崎陽晴,山本祐馬,佐藤優志,Sukma Wahyu Fitriani, 鎌滝晋礼,山下大輔,奥村賢直,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治
    • Organizer
      プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第28回 支部大会
    • Related Report
      2024 Research-status Report
  • [Presentation] Effects of tailored voltage waveform discharges on deposition of hydrogenated amorphous carbon films by CH4/Ar capacitively coupled plasma2023

    • Author(s)
      M. Otaka, H. Otomo, K. Ikeda, J. Lai, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Shindo, S. Tanaka, T. Matsudo
    • Organizer
      ICPIG2023
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Effects of Ne mixing on plasma enhanced chemical vapor deposition of a-C:H films using CH4/Ar/Ne capacitively coupled discharges2023

    • Author(s)
      K. Ikeda, M. Otaka, H. Otomo, T. Arima, J. Lai, K. Kamataki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, H. Kiyama, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Shindo, S. Tanaka, T. Matsudo
    • Organizer
      ICPIG2023
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Effects of lower discharge frequency on ion energy distribution function in dual frequency plasma studied by particle-in-cell/Monte Carlo method2023

    • Author(s)
      J. Lai, T. Arima, M. Otaka, K. Ikeda, I. Nagao, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani
    • Organizer
      ICPIG2023
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      2023 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Control of ion trajectory in high aspect ratio trenches by using amplitude modulated rf discharges2023

    • Author(s)
      Nagao, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, H. Kiyama, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani
    • Organizer
      ICPIG2023
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      2023 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 任意波形放電を用いた水素化アモルファスカーボン膜の膜質制御2023

    • Author(s)
      大高真寛,大友洋, 池田築, 頼建勲, 脇田大地, 鎌滝晋礼, 山下直人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治, 進藤崇央, 田中諭志, 松土龍夫
    • Organizer
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
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      2023 Research-status Report
  • [Presentation] 任意電圧波形放電による容量結合プラズマにおける重畳周波数の効果:PIC-MCCモデル2023

    • Author(s)
      頼 建勳, 鎌滝 晋礼, 山下 大輔, 奥村 賢直, 山下 尚人, 板垣 奈穂, 古閑 一憲, 白谷 正治
    • Organizer
      2023年(令和5年度)応用物理学会九州支部学術講演
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      2023 Research-status Report
  • [Presentation] PECVD を用いた a-C:H 成膜における添加希ガス種における成膜機構の違い2023

    • Author(s)
      池田築, 大高真寛,大友洋,脇田大地,頼建勲,鎌滝晋礼, 山下大輔,奥村賢直,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲, 白谷正治, 進藤崇央,松土龍夫
    • Organizer
      プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第27回 支部大会
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  • [Presentation] 任意波形放電による水素化アモルファスカーボン成膜:イオンフラックスが膜質に与える影響2023

    • Author(s)
      脇田大地,大高真寛,池田築,頼建勲,大友洋,鎌滝晋礼,山下直人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治,進藤崇央,松土龍夫
    • Organizer
      プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第27回 支部大会
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      2023 Research-status Report
  • [Presentation] 放電電圧変調波形が高周波容量結合プラズマに与える影響:PIC-MCC シミュレーション2023

    • Author(s)
      長尾伊織,山本祐馬,佐藤優志,鎌滝晋礼,山下尚人, 奥村賢直,木山治樹,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治
    • Organizer
      プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第27回 支部大会
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      2023 Research-status Report
  • [Remarks] 九州大学 プラズマ工学研究室

    • URL

      http://plasma.ed.kyushu-u.ac.jp/index.html

    • Related Report
      2024 Research-status Report 2023 Research-status Report

URL: 

Published: 2023-04-13   Modified: 2025-12-26  

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