Correlation between electronic structure and corrosion resistance of passive film of H-charged stainless steel

Research Project

Project/Area Number	23K04434
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 26050:Material processing and microstructure control-related
Research Institution	Tokyo Institute of Technology
Principal Investigator	多田英司東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (40302260)
Project Period (FY)	2023-04-01 – 2026-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2023)
Budget Amount *help	¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000) Fiscal Year 2025: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000) Fiscal Year 2024: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000) Fiscal Year 2023: ¥2,730,000 (Direct Cost: ¥2,100,000、Indirect Cost: ¥630,000)
Keywords	半導体特性 / 局部腐食 / 電気化学インピーダンス / 水素チャージ / 皮膜構造
Outline of Research at the Start	本研究では，ステンレス鋼の不動態皮膜について，水素が固溶することによってその構造と電子構造（バンド構造）がどのように変化し，耐食性に対する影響を実験的検討から解明することを目的としている．皮膜構造，バンド構造がわかると，金属のアノード溶解反応が促進されるか，抑制されるかが明確となり，耐食性変化の原因を明確にできる．そこで，（1）水素を固溶したステンレス鋼の水素吸収量と水素存在状態解析，（2）水素を固溶したステンレス鋼の不働態皮膜の構造および電子構造評価，（3）水素を固溶したステンレス鋼の電気化学反応特性・耐食性評価，（４）ステンレス鋼の耐食性に及ぼす固溶水素の影響解明に関する研究を実施する．