次世代超高記録密度磁気ディスク用単分子保護膜および潤滑膜の界面化学構造と材料設計

Research Project

Project/Area Number	23K04591
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
Research Institution	Waseda University
Principal Investigator	柳沢雅広早稲田大学, ナノ・ライフ創新研究機構, その他(招聘研究員) (20421224)
Project Period (FY)	2023-04-01 – 2028-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2023)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2027: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000) Fiscal Year 2026: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000) Fiscal Year 2025: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000) Fiscal Year 2024: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000) Fiscal Year 2023: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
Keywords	トライボロジー / 表面増強ラマン分光法 / プラズモンセンサ / 磁気ディスク / 熱アシスト磁気記録
Outline of Research at the Start	本研究では、磁気ディスクの記録密度を現状の10倍である1平方インチあたり10テラビットを達成するための基本技術、特に記録ヘッドと記録媒体の間隔(HMS)の減少および新しい記録方式である熱アシスト磁気記録方式(HAMR)に伴う材料上の課題解決と新材料を提示する。