神経外胚葉分化における、ヘパラン硫酸修飾酵素によるモルフォゲンの分布制御

• Project/Area Number: 23K05791
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 44020:Developmental biology-related
• Research Institution: The University of Tokyo
• Principal Investigator: 山元 孝佳 東京大学, 大学院総合文化研究科, 助教 (70724699)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 道上 達男 東京大学, 大学院総合文化研究科, 教授 (10282724)
• Project Period (FY): 2023-04-01 – 2026-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2023)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2025: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000); Fiscal Year 2024: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2023: ¥1,950,000 (Direct Cost: ¥1,500,000、Indirect Cost: ¥450,000)
• Keywords: モルフォゲン / ヘパラン硫酸 / 濃度勾配

Outline of Research at the Start

多様な化学修飾パターンを持つヘパラン硫酸（HS）は、Wnt等のモルフォゲンに結合することでその濃度勾配やシグナル伝達を制御する。これまで我々は２つのHS修飾に着目し、細胞内への取り込み頻度が異なることを明らかにした。しかしHS修飾の発生過程における役割はほとんど不明である。そこで本研究では、既存の単純な濃度勾配モデルでは説明できないパターニングの見られる神経外胚葉分化を対象として、そのパターニングを担う複数のモルフォゲンに対するHS修飾の効果を調べる。