ナノインプリンティング技術を用いた高解像α線イメージング技術の開発
| Project/Area Number |
23K07219
|
|---|
| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
|
| Allocation Type | Multi-year Fund |
|---|
| Section | 一般 |
|---|
| Review Section |
Basic Section 52040:Radiological sciences-related
|
|---|
| Research Institution | Japan Atomic Energy Agency |
|---|
Principal Investigator |
瀬川 麻里子 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 原子力科学研究所 原子力基礎工学研究センター, 研究職 (00435603)
|
|---|
| Project Period (FY) |
2023-04-01 – 2026-03-31
|
| Project Status |
Granted (Fiscal Year 2023)
|
| Budget Amount *help |
¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000)
Fiscal Year 2025: ¥260,000 (Direct Cost: ¥200,000、Indirect Cost: ¥60,000)
Fiscal Year 2024: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000)
Fiscal Year 2023: ¥3,120,000 (Direct Cost: ¥2,400,000、Indirect Cost: ¥720,000)
|
|---|
| Keywords | 放射線計測 / 放射線測定 |
|---|
| Outline of Research at the Start |
α線を放出する医療用RIは、患者に投与後がんに集積し、崩壊を繰り返してα線を放出する。もし崩壊後のRIががん細胞近くにとどまっていれば、α線は繰り返しがん細胞を攻撃可能となり、極めて高い治療効果が期待できる。この治療効果を見積もるには、複数細胞内の場所と線量についての情報取得が不可欠であるため、本研究ではα線の直進成分のみ取出し可能な、α線用高精細グリッドを含む撮像システムを構築し、高解像でα線分布の定量可視化分析が可能な技術を開発する。
|
| Outline of Annual Research Achievements |
本研究では、難治性の悪性腫瘍に対する治療効果の高いα線を活用したRI内用療法の実用化を目指し、ナノインプリンティング技術を応用した高解像度α線イメージング技術の開発を行った。近年注目されているα線放出核種を利用したRI内用療法において、従来のα線イメージング技術では複数細胞内の分布を正確に評価することが難しいため、以下のアプローチで課題の解決を目指した。
①α線用高精細グリッドの開発：高分解能グリッドの開発を行い、α線の直進成分のみを取り出す。②ZnS（Ag）シンチレーター＋モスアイフィルターの開発：新素材のモスアイフィルターを組み合わせたシンチレーターを開発し、光量を増やし分解能を向上させる。
α線用高精細グリッドの開発において型となるモールドの設計が必要であるため、本年度はPHITSを用いてグリッドの素材、ピッチ・深さをパラメータとしたシミュレーションを行い、分解能を劣化させない直進成分のα線のみを選択的に取り出せる深さ（例えばAl2O3では５μｍ）、ピッチ（同５００nm)を求めた。しかし、ナノインプリンティング技術上の製作限界があり、上記の設計では著しく歩留まりが低下する事が判明した。そこで、シミュレーションによる検討をさらに進め、板状Au（深さ11μm)の上に櫛状グリッド（深さ500nm程度）を組み合わせることでグリッドとしての性能を大きく低下させる事なくモールドが製作可能であるとの結果を得て研究を進展させた。次に、ZnS（Ag）シンチレーター＋モスアイフィルターの開発においては、モスアイフィルターを選定した。これらの取り組みにより、高解像度α線イメージング技術の開発に向けて研究を前進させ来年度の実証試験に向けた道筋を得た。
|
| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
α線用高精細グリッド用モールド設計のため、ピッチ・深さをパラメータとしてシミュレーションを行い、分解能を劣化させない直進成分のα線のみを選択的に取り出せる深さ、ピッチを求めた。しかし、ピッチに対する深さには製作限界があり、上記の設計では著しく歩留まりが低下する事が判明した。そこで、シミュレーションによる検討をさらに進め、板状スレートの上に櫛状グリッドを組み合わせることでグリッドとしての性能を大きく低下させる事なくモールドが製作可能であるとの結果を得て研究を進展させた。
|
| Strategy for Future Research Activity |
令和６年度の研究推進については、以下のように予定している。
①α線用高精細グリッドの開発においては、シミュレーションに基づき設計したモールドから試験的に１ｃｍ角程度の小型グリッドを試験的に製作し、その評価を行う。
②ZnS（Ag）シンチレーター＋モスアイフィルター：選定したモスアイフィルターの突起が無い面にZnS(Ag)シンチレーターを塗布した新構成のシンチレーターを製作する。このモスアイフィルター付きZnS（Ag）シンチレーターの光量及び分解能も評価する。
③光学顕微鏡によるイメージングシステム：モスアイフィルターを透過した蛍光を1000倍以上の光学顕微鏡により逐次観察し、可視化するシステムの開発に着手する。①、②に基づき、取得済みの光学顕微鏡を基盤とし、視野角１～５㎝程度のシステムを構築する。
|
Report
(1 results)
Research Products
(2 results)
