口蓋癒合後の口蓋裂発生機序に関する研究ーBARX１に着目してー

• Project/Area Number: 23K09325
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 57060:Surgical dentistry-related
• Research Institution: Aichi Gakuin University
• Principal Investigator: 井村 英人 愛知学院大学, 歯学部, 講師 (10513187)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 鈴木 聡 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (30468996) ; 平田 あずみ 大阪医科薬科大学, 医学部, 准教授 (40263587) ; 佐久間 千里 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (40849709) ; 吉田 磨弥 (大野磨弥) 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (70760718)
• Project Period (FY): 2023-04-01 – 2026-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2023)
• Budget Amount: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000); Fiscal Year 2025: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2024: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2023: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000)
• Keywords: 口蓋裂 / 発生 / 癒合 / 基底膜 / BARX1

Outline of Research at the Start

「胎生期に左右の口蓋突起が癒合し、口蓋が一旦形成された後に、癒合部が解離して口蓋裂が発症する」という、従来の概念とは異なる口蓋裂の発症機構を見出し、その機序として基底膜の破断が関与し、いったん口蓋突起が癒合して形成された口蓋が後方部から解離して口蓋裂を発症することを報告してきた。本研究では、口蓋癒合後離開する過程において、口蓋後方部の形成に関与するBARX1遺伝子に着目し、申請者らの保有するヒト口蓋裂患者の血液及び組織サンプルからDNAを抽出し、BARX1遺伝子上の変異の有無を同定するとともに、口蓋癒合後離開する際のBARX1の働きを解析し、口蓋形成後の基底膜断裂による口蓋裂発生への関与を明らかにする。