半導体加工技術を用いた微小空間制御による階層型脳オルガノイドの構築

• Project/Area Number: 23K18564
• Research Category: Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: Medium-sized Section 90:Biomedical engineering and related fields
• Research Institution: Kyushu Institute of Technology
• Principal Investigator: 安田 隆 九州工業大学, 大学院生命体工学研究科, 教授 (80270883)
• Project Period (FY): 2023-06-30 – 2026-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2023)
• Budget Amount: ¥6,500,000 (Direct Cost: ¥5,000,000、Indirect Cost: ¥1,500,000); Fiscal Year 2025: ¥1,950,000 (Direct Cost: ¥1,500,000、Indirect Cost: ¥450,000); Fiscal Year 2024: ¥1,950,000 (Direct Cost: ¥1,500,000、Indirect Cost: ¥450,000); Fiscal Year 2023: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
• Keywords: 半導体加工 / 多孔膜 / マイクロ流路 / 脳オルガノイド

Outline of Research at the Start

半導体加工技術による微小空間制御を駆使して、ニューロン、アストロサイト、血管の3層から構成される階層構造をデバイス上に再現し、生体内の神経系が有する高次機能を発現し得る脳オルガノイドを構築する。本研究は、従来法では困難であった脳組織の階層構造と血管構造を脳オルガノイドに導入する挑戦的なテーマであり、脳オルガノイドの高機能化を実現し、難治神経疾患の発症機構解明と治療薬開発に大きく寄与するものである。