Research Project
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
本研究は、酸化物半導体薄膜トランジスタ形成を研究対象とし、独自の高密度プラズマ発生・制御技術に基づいて新たなプロセス制御技術を開拓して、従来のプロセスが抱える課題をブレークスルーすることにより、次世代フレキシブルデバイスの実現に向けた新たなプロセス技術の創成を目指す。