その場波面制御で自在に操る干渉定在波によるサブμｍ級自由微細構造の大面積露光創成
| Project/Area Number |
23K22641
|
|---|
| Project/Area Number (Other) |
22H01370 (2022-2023)
|
|---|
| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
|
| Allocation Type | Multi-year Fund (2024)
Single-year Grants (2022-2023) |
|---|
| Section | 一般 |
|---|
| Review Section |
Basic Section 18020:Manufacturing and production engineering-related
|
|---|
| Research Institution | Hokkaido University |
|---|
Principal Investigator |
清水 裕樹 北海道大学, 工学研究院, 教授 (70606384)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
高 偉 東北大学, 工学研究科, 教授 (70270816)
|
|---|
| Project Period (FY) |
2022-04-01 – 2025-03-31
|
| Project Status |
Granted (Fiscal Year 2024)
|
| Budget Amount *help |
¥17,420,000 (Direct Cost: ¥13,400,000、Indirect Cost: ¥4,020,000)
Fiscal Year 2024: ¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000)
Fiscal Year 2023: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000)
Fiscal Year 2022: ¥8,060,000 (Direct Cost: ¥6,200,000、Indirect Cost: ¥1,860,000)
|
|---|
| Keywords | 微細構造露光 / 干渉定在波 / 波面制御 / 超精密計測 / 生産工学 / 加工学 |
|---|
| Outline of Research at the Start |
本研究では，複数のレーザビームを重ね合わせて生成する干渉縞を転写して微細パターンを得る光干渉リソグラフィの手法に対して，空間位相変調器(SLM)による波面制御を導入することで，従来はその実現が容易ではなかったラインパターン等の単純パターン以外の自由微細パターン露光の実現を試みる．1本のレーザ光を分岐して干渉縞を生成するロイドミラー干渉計光学系にSLMを導入して露光システムを構築し，提案手法の有効性を実験的に検証する．
|
| Outline of Annual Research Achievements |
本研究では，サブマイクロメートル級微細パターンのマスクレス露光を実現する波面制御型光干渉リソグラフィ光学系を開発する．非直交型2軸ロイドミラー干渉計光学系に波面制御を融合して，不等ピッチ2軸ドットアレイの高精度創成を実現すること，波面制御型の非直交型2軸ロイドミラー干渉計にデュアル波長レーザ光源を導入し，レジスト透過レーザによる観測干渉定在波をもとに，レジスト吸収レーザで得られる露光干渉定在波をインプロセスで「その場」推定するアルゴリズムを確立し，パターン創成プロセスの効率と精度を向上すること，および露光サブビーム（直接/X/Yビーム）の波面を独立に制御するアルゴリズムを構築し，2軸干渉定在波中の各光スポットの独立制御によるマスクレスでのサブμm級自由パターン露光を実現すること，を目的とする．
計画２年目となる令和５年度は，前年度までに構築した干渉計光学系に対して空間位相変調器(SLM)を組み込んだ修正光学系を設計・構築した．この修正光学系に対して前年度に構築した観測干渉定在波「その場」観察光学系を組み合わせ，基礎特性評価実験により入射レーザビームの波面制御量と発生する干渉定在波変化との関係を実験的に明らかにした．また，ビーム内で位置毎に異なる波面制御を施すことにより，ラインパターン干渉定在波の不等ピッチ化を実現した．さらに，干渉縞をレジスト基板に転写する実験装置を構築し，構築した修整光学系により安定な微細パターン露光が可能であることを実証した．
|
| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
当初計画どおりに干渉縞生成光学系に波面制御光学系を組み込み，基礎特性評価実験により干渉縞制御実現が期待できる実験結果が得られ，不等ピッチ干渉縞生成に成功している．また，次のステップとして設定している自由パターン露光についても数値解析計算による理論的検討が進められており，その実現可能性を見出せていることから，おおむね順調に進んでいるものと判断した．
|
| Strategy for Future Research Activity |
計画最終年度となる2024年度は，SLMによる波面制御を複数露光ビームに拡張することで，干渉定在波中の個々の光スポットを孤立化するとともに，そのXY2軸方向への独立マニピュレーションによる自由マイクロパターン大面積一括露光を試みる．露光・現像したガラス基板をSEM，AFMで観察し，提案手法により自由マイクロパターンがマスクレスで生成可能であることを実証する．併せて，提案手法で加工可能な最小パターンサイズの定量的評価を試みる．
|
Report
(2 results)
Research Products
(18 results)
