界面磁気結合を活用した新規水素吸蔵機能の創出

• Project/Area Number: 23K26542
• Project/Area Number (Other): 23H01849 (2023)
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Multi-year Fund (2024); Single-year Grants (2023)
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
• Research Institution: Nagoya University
• Principal Investigator: 宮町 俊生 名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 准教授 (10437361)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 小澤 孝拓 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (20910144)
• Project Period (FY): 2023-04-01 – 2026-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥19,240,000 (Direct Cost: ¥14,800,000、Indirect Cost: ¥4,440,000); Fiscal Year 2025: ¥3,900,000 (Direct Cost: ¥3,000,000、Indirect Cost: ¥900,000); Fiscal Year 2024: ¥3,900,000 (Direct Cost: ¥3,000,000、Indirect Cost: ¥900,000); Fiscal Year 2023: ¥11,440,000 (Direct Cost: ¥8,800,000、Indirect Cost: ¥2,640,000)
• Keywords: 水素吸蔵金属 / 界面磁気結合 / 水素吸蔵特性 / 走査トンネル顕微鏡

Outline of Research at the Start

水素吸蔵金属であるPd薄膜を強磁性薄膜(FM)上に積層してd/FM薄膜ヘテロ構造を作製し、磁気近接効果を利用してPdに磁化を誘起させる。そして、Pd/FM薄膜ヘテロ構造の界面磁気結合状態を変化させた際にPd薄膜のd軌道の電子密度分布に現れる変調を原子スケールかつスピン・軌道分解して調べ、水素吸蔵特性を向上させる基本原理をミクロに解明し、磁性による新規水素吸蔵機能の創出に取り組む。