| Project/Area Number |
23KF0049
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Multi-year Fund |
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| Section | 外国 |
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| Review Section |
Basic Section 14010:Fundamental plasma-related
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
浜口 智志 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (60301826)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
VINCHON PIERRE 大阪大学, 大学院工学研究科, 外国人特別研究員
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| Project Period (FY) |
2023-04-25 – 2025-03-31
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| Project Status |
Granted (Fiscal Year 2023)
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| Budget Amount *help |
¥2,400,000 (Direct Cost: ¥2,400,000)
Fiscal Year 2024: ¥1,200,000 (Direct Cost: ¥1,200,000)
Fiscal Year 2023: ¥1,200,000 (Direct Cost: ¥1,200,000)
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| Outline of Research at the Start |
本研究は、プラズマ支援原子層堆積法（PE-ALD）により、グラフェン及び単層アモルファスカーボン（MAC）の低温成膜を実現することを目標とする。既存の手法では、グラフェン等をCu基板上に成膜するには、基板を1000℃程度の高温で加熱することが必要であったが、将来の２次元半導体デバイスの製造においては、表面温度を300℃以下程度に抑え、且つ、SiO2のような絶縁体基板上にグラフェンを生成することが求められる。本研究では、ベンゼン等前駆体の重合反応を誘起するPE-ALDにおける表面反応機構を、プラズマ実験と数値シミュレーションにより解明し、同PE-ALDの実現を目指す。
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