Research Project
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
本研究課題ではトンネル磁気抵抗素子のバリア層界面から原子ステップを極限まで減少させることで、完全なコヒーレントトンネルの実現を目指す。これにより、かつてない程の大きな室温トンネル磁気抵抗比の達成を狙う。本研究課題の推進によってトンネル磁気抵抗素子に残る原子ステップが、トンネル磁気抵抗比の大きさを左右するコヒーレントトンネル過程へ与える影響が明らかになると期待できる。これにより超大容量磁気メモリなど革新的なスピンデバイスの実現に向けた重要な素子設計指針が導かれることも期待できる。