Precise wavefront control using layer-by-layer etching of multilayer mirrors for diffraction-limited extreme ultraviolet imaging

• Project/Area Number: 24H00434
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Review Section: Medium-sized Section 30:Applied physics and engineering and related fields
• Research Institution: Tokyo Polytechnic University
• Principal Investigator: 豊田 光紀 東京工芸大学, 工学部, 教授 (40375168)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 津留 俊英 山形大学, 地域教育文化学部, 教授 (30306526) ; 浅川 直紀 群馬大学, 大学院理工学府, 教授 (80270924) ; 高田 昌樹 東北大学, 国際放射光イノベーション・スマート研究センター, 教授 (60197100)
• Project Period (FY): 2024-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥47,450,000 (Direct Cost: ¥36,500,000、Indirect Cost: ¥10,950,000); Fiscal Year 2025: ¥15,340,000 (Direct Cost: ¥11,800,000、Indirect Cost: ¥3,540,000); Fiscal Year 2024: ¥9,360,000 (Direct Cost: ¥7,200,000、Indirect Cost: ¥2,160,000)
• Keywords: 多層膜ミラー / 軟X線 / リソグラフィ

Outline of Research at the Start

本研究では、独自に考案した多層膜ミラー構造のLayer by layer化学エッチング法を用い極紫外(EUV)領域において10pm精度で波面を制御する新手法を開発する。開発の目的は、Beyond EUVリソや顕微鏡応用の実用フェーズを見据え、大開口数化や短波長化により10nmの高い空間分解能をもつEUV多層膜ミラー結像系を初めて実現することにある。これにより、ミラー基板の形状誤差が制限する空間分解能を向上すると同時に、回折限界結像が可能なエネルギー領域を、半導体製造や顕微鏡応用に必須の軽元素の内殻吸収端に合わせた高エネルギー領域(ホウ素・炭素・水の窓200-500eV領域)へ拡張できる。