| Project/Area Number |
24H02555
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Review Section |
2150:Electrical and electronic engineering and related fields
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
田村 茂雄 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 技術支援員
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| Project Period (FY) |
2024-04-01 – 2025-03-31
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| Project Status |
Granted (Fiscal Year 2024)
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| Budget Amount *help |
¥450,000 (Direct Cost: ¥450,000)
Fiscal Year 2024: ¥450,000 (Direct Cost: ¥450,000)
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| Outline of Research at the Start |
電子ビーム露光による微細加工は、数ナノメートルまで収束可能な電子ビームにより微細加工に優れ、任意のパターン形状の露光が可能である。電子ビーム露光はパターンを電子ビームで偏向可能なフィールド毎にウェーハを移動して順次露光するため大面積パターンでは、大きな偏向幅が得られず露光時間が長くなりスループットが低下する原因の一つとなる。その対策のためUV光に感受性があるネガ型レジストによる電子ビーム露光において、レジストの感度を向上させるために、電子ビーム露光後のレジストにUV光を重ね合わせて一括照射露光する。これによりパターン形成に必要な電子ビーム露光量を低減させ、レジストの高感度化を実現する。
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