光渦格子による大規模キラルパターン配列の形成

Research Project

Project/Area Number	24K01216
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 26050:Material processing and microstructure control-related
Research Institution	Osaka University
Principal Investigator	中田芳樹大阪大学, レーザー科学研究所, 准教授 (70291523)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥18,330,000 (Direct Cost: ¥14,100,000、Indirect Cost: ¥4,230,000) Fiscal Year 2026: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000) Fiscal Year 2025: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000) Fiscal Year 2024: ¥16,770,000 (Direct Cost: ¥12,900,000、Indirect Cost: ¥3,870,000)
Keywords	レーザー / 光渦 / 干渉パターン / メガ光渦 / レーザー加工
Outline of Research at the Start	「光渦」は光強度が0となる特異点を中心に螺旋状の波面を持ち、軌道角運動量を備える。申請者は、干渉パターン形成において光渦が干渉領域全面に配列する事をシミュレーションで見いだした。532nm連続波レーザーを用いた実証実験を行い、これを「メガ光渦」と名付けた。これまでの単独光渦の応用で人工らせん構造形成など革新的な成果が生まれている。これにメガ光渦を応用することで、超並列物質操作などが可能となる。本申請では光源にピコ秒レーザーを導入し、物質加工閾値を超えたメガ光渦照射を形成する。これにより、超配列した光渦が持つ軌道角運動量を反映した大規模キラルパターン配列の一括形成を試みる。