クロススリット型ダブルエマルション量産技術の基盤研究

Research Project

Project/Area Number	24K01244
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 27020:Chemical reaction and process system engineering-related
Research Institution	Tokyo Institute of Technology
Principal Investigator	西迫貴志東京工業大学, 科学技術創成研究院, 准教授 (10431983)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥18,590,000 (Direct Cost: ¥14,300,000、Indirect Cost: ¥4,290,000) Fiscal Year 2026: ¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000) Fiscal Year 2025: ¥4,290,000 (Direct Cost: ¥3,300,000、Indirect Cost: ¥990,000) Fiscal Year 2024: ¥10,140,000 (Direct Cost: ¥7,800,000、Indirect Cost: ¥2,340,000)
Keywords	マイクロプロセス
Outline of Research at the Start	近年，マイクロ流路を用いた単分散ダブルエマルションの生成法が注目されている．しかし単一流路の極めて低い生産性とマイクロ流路集積化の困難さが，生産技術としての本手法の幅広い普及を妨げている．そこで本研究では，マイクロ流路アレイとスリット状流路を組み合わせた構造によるダブルエマルション生成技術の研究を実施する．3次元流体解析，微細加工，液滴生成試験，を組合せ，当該技術を単分散ダブルエマルションおよび機能性粒子の生産技術として展開するための研究基盤を確立する．