DC Magnetron Sputtering for High Performance Accelerators

Research Project

Project/Area Number	24K07079
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 15020:Experimental studies related to particle-, nuclear-, cosmic ray and astro-physics
Research Institution	High Energy Accelerator Research Organization
Principal Investigator	山本将博大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 准教授 (00377962)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	井藤隼人大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 助教 (30881552) 谷本育律大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 教授 (60311130) 岡田貴文大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 助教 (70910579)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2026: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000) Fiscal Year 2025: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000) Fiscal Year 2024: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000)
Keywords	加速器 / マグネトロンスパッタ / 超伝導薄膜 / NEGコーティング
Outline of Research at the Start	高輝度・大電流ビームの効率的な加速・蓄積には高い転移温度と臨界磁場を有する超伝導加速器、真空ダクト表面で発生するガス放出や２次電子放出、電子刺激に伴うガス放出の抑制などが重要である。これらの機能を有する薄膜をマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜を試み、その評価を行う。加速器やビームダクト実機に対する成膜技術・手法を確立する。