合金を用いたEUV多層膜反射鏡の開発（内部磁気圏撮像の機会増大をはかる）

Research Project

Project/Area Number	24K07111
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 17010:Space and planetary sciences-related
Research Institution	The University of Tokyo
Principal Investigator	吉川一朗東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 教授 (10311169)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2026: ¥520,000 (Direct Cost: ¥400,000、Indirect Cost: ¥120,000) Fiscal Year 2025: ¥1,950,000 (Direct Cost: ¥1,500,000、Indirect Cost: ¥450,000) Fiscal Year 2024: ¥2,210,000 (Direct Cost: ¥1,700,000、Indirect Cost: ¥510,000)
Keywords	EUV / リモートセンシング / プラズマ圏撮像 / 大気分光
Outline of Research at the Start	２１世紀の初頭、ヘリウム一価イオンの共鳴散乱線（波長30.4nm）を効率よく集光できる多層膜反射鏡が地球物理学の分野に大きな成果をもたらした。モリブデンとシリコンを重ねることにより鏡の反射率を１８％にまで向上させ、内部磁気圏撮像を成功に導いた。計算上では高い反射率を実現できるが、実現には２種の物質の境界（界面）の安定性が重要にある。安定した界面を形成するのが難しいMgやAlを、Ｓｉ等との合金として使えば安定した界面を形成でき、高い反射率を有する可能性がある。ＭｇやＡｌを合金として用いた多層膜反射鏡を製造し、その特性調査と耐久試験までを行う。