Chemical Reactions and Physical Adsorption of Silane Coupling Agent Molecular Layers on Silicon Surfaces and the Impact on Metal Plating

Research Project

Project/Area Number	24K08051
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 26030:Composite materials and interfaces-related
Research Institution	Iwate University
Principal Investigator	桑静岩手大学, 理工学部, 准教授 (20878441)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2026: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000) Fiscal Year 2025: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000) Fiscal Year 2024: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
Keywords	Si表面 / シランカップリング剤 / 表面処理 / 金属湿式めっき / パターンめっき
Outline of Research at the Start	高周波対応材料として、シリコン(Si) やガラスなどの表面へ乾式めっき法を用いて金属シード層を形成し、その上に回路を形成する方法が一般的であるが、この方法は基板と金属めっき層の密着性や均一性、表面制御かつコストなどの課題がある。従って、 Si、ガラスの表面をエッチングレスの湿式めっき法で直接めっきする方法が注目されている。本研究は、Si 表面でのシランカップリング剤の吸着挙動、分子配向性が、金属めっきの密着強度や、耐久性に及ぼす影響、および金属めっき層の界面形成メカニズムを明らかにすることによって、Si、ガラス基板に直接パターンめっきを創成する新規的なエレクトロニクス実装技術を開発する。