ガラスの超精密研磨過程におけるファインバブルによる化学研磨性の発現メカニズム

• Project/Area Number: 24K08097
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 26050:Material processing and microstructure control-related
• Research Institution: Shizuoka University
• Principal Investigator: 須田 聖一 静岡大学, 工学部, 教授 (50226578)
• Project Period (FY): 2024-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2027: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000); Fiscal Year 2026: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000); Fiscal Year 2025: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000); Fiscal Year 2024: ¥2,340,000 (Direct Cost: ¥1,800,000、Indirect Cost: ¥540,000)
• Keywords: 化学機械研磨 / ファインバブル / 電荷移動反応 / 電気二重層 / 水酸化物イオン

Outline of Research at the Start

ハードディスク用ガラス基板，高解像度用レンズ，さらにLEDの基材となるサファイア基板，パワー半導体用SiCやGa2O3などを欠陥なしに速やかに加工する「超精密加工研磨技術」の高度化は，次世代デバイスの基盤技術として革新的な進展が強く求められている。この進展のためには，研磨時の化学反応すなわち「化学研磨」が重要である。本研究ではファインバブルを化学研磨に活用することを検討する。この実現によって，スクラッチの生成の懸念が払拭できるだけでなく，研磨後の洗浄が不要となる。また，研磨対象材としてこれまでコロイダルシリカを用いてきた多くの半導体材料や難加工材料へ展開することが期待できる。