Research of high-current stabilization of integrated focused micro ion beam array

Research Project

Project/Area Number	24K08217
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 28050:Nano/micro-systems-related
Research Institution	Tohoku University
Principal Investigator	桑野博喜東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 学術研究員 (50361118)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2026: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000) Fiscal Year 2025: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000) Fiscal Year 2024: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000)
Keywords	集束イオンビーム / MEMS / イオン液体 / マルチイオンビーム
Outline of Research at the Start	高機能ナノ自由加工を実現するには、FIBの適用が有望である。しかし、加工効率が極端に悪いことがFIBのさらなる実応用の拡大を阻んでいることが大きな原因であると考える。電子ビームでもマルチビーム化が検討されているがレジスト露光のみの単用途である。これらに対して本研究では、M-FIBを用いた新しいマスクレス加工の研究によりM-FIBの基本技術を確立し、エッチング、イオン注入、表面修飾、薄膜形成などの複数の処理を同時に行う高機能自由ナノ加工を実現する。