Development of Josephson junction with magnetic multilayers

• Project/Area Number: 24K08238
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 29010:Applied physical properties-related
• Research Institution: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
• Principal Investigator: 藤田 裕一 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 量子・AI融合技術ビジネス開発グローバル研究センター, 研究員 (40874459)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 桜庭 裕弥 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 磁性・スピントロニクス材料研究センター, グループリーダー (10451618)
• Project Period (FY): 2024-04-01 – 2027-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000); Fiscal Year 2026: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2025: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000); Fiscal Year 2024: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
• Keywords: 超伝導体 / 強磁性体 / スピントロニクス / 薄膜

Outline of Research at the Start

次世代大規模計算機のハードウェアの基礎技術の有望な候補である，超伝導体ベースのデジタル回路や量子ビットの研究開発が国内外で活発に行われている．本研究では，超伝導デバイス・回路の高性能化・高集積化を促進することが期待される，強磁性ジョセフソン接合(強磁性JJ)に注目する．強磁性体(強磁性多層膜)/超伝導体構造の材料開発や超伝導現象の探索を実施し，強磁性多層構造を有する新規の高性能強磁性JJの実現を目指す．