High-density hydrogen storage performance in nickel oxide thin films by controlling the substrate surface characteristics.

Research Project

Project/Area Number	24K08248
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
Research Institution	University of Hyogo
Principal Investigator	大坂藍兵庫県立大学, 工学研究科, 助教 (70868299)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2026: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000) Fiscal Year 2025: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000) Fiscal Year 2024: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000)
Keywords	水素貯蔵材料 / ニッケル酸化物 / 表面処理 / 薄膜
Outline of Research at the Start	水素エネルギーは使用後に水となり二酸化炭素を排出しない、低炭素社会を実現するエネルギーキャリアの１つである。水素エネルギー利用の実現には大気圧・常温で気体である水素の固体中への貯蔵技術の開発が必要不可欠である。本研究では環境負荷コストが低く、電気的に制御性のあるニッケル酸化物を用いた高密度水素貯蔵薄膜を実現する。ニッケル酸化物は結晶欠陥周辺で水素貯蔵性能が向上するため、膜内欠陥数の支配要因の１つである薄膜下地基板の粗さを原子レベルで制御することで、ニッケル酸化物薄膜の水素貯蔵性能を飛躍的に向上させる。