高強度レーザーパルスに付随するポストペデスタル発生機構の解明

Research Project

Project/Area Number	24K08294
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 30020:Optical engineering and photon science-related
Research Institution	National Institutes for Quantum Science and Technology
Principal Investigator	宮坂泰弘国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 関西光量子科学研究所光量子ビーム科学研究部, 主任研究員 (20761464)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	桐山博光国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 関西光量子科学研究所光量子ビーム科学研究部, グループリーダー (40354972)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2026: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000) Fiscal Year 2025: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000) Fiscal Year 2024: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000)
Keywords	超短パルスレーザー / パルスコントラスト / チャープパルス増幅
Outline of Research at the Start	高強度レーザーパルスを用いた実験では、メインパルスに先行する光ノイズ成分が先にターゲットに到達する。光ノイズ成分の強度が高いとメインパルスが到達するまでにターゲットの状態が変化してしまうため、光ノイズ成分の抑制が課題となっている。本研究では、メインパルスに付随する光ノイズ成分の一つであるポストペデスタルの発生機構の解明と抑制をを行うことで、パルスコントラストの改善を目指す。